Occasion KLA / TENCOR 5200XP #9118489 à vendre en France
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Vendu
ID: 9118489
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Overlay measurement system, 8"
Hardware:
Chuck 8"
Autoloader
(2) 8" open cassette load ports
Main VME card cage
Motor VME card cage
Flotation module
LINNIK and KLAASP
Power module
Hardware configuration:
Main console
Handler: dual open cassette
(2) Load ports: 8" open cassette
Signal tower
GEM/SECS
Network
Standard wafers: DSW75.1
Main VME card cage:
CPU board
Memory board
Video (frame grabber) board
I/O board
PZT controller board
Motor VME card cage:
Motor CPU board
Stepper driver board 1-4
Encoder interface board
Stage:
XYT stage
Z Motor
Host chuck
Z PZT
X PZT
Y PZT
PM target
Floatation module:
(4) Isolators
(3) Proximity sensors
PID board
LINNIK and KLAASP:
Arc lamp housing
Dual aperture
LLG
LINNIK camera
PIN diode array
P PZT
Shutter
KLAASP camera
Power module:
Power transformer
AC compartment
Main DC power supply
Arc lamp power supply
Vacuum and pressure air inlet
(3) Vacuums
CDA
Software:
Windows NT 4.0
Software 14.60.02
GEM/SECS
KLASS 4.1.1.1
Computer configurations:
Pentium II 400 MHz CPU
128M Ram
(2) 9G hard drive disk
Floppy drive
CD ROM
Tape driver
Monitor
Thermal printer
Keyboard/track ball
Options: UPS
Facilities:
225VAC, 50/60 Hz input power
25"Hg input vacuum
97-110 PSI input CDA
Manual
1997 vintage.
KLA/TENCOR 5200XP est un équipement d'essai et de métrologie de wafer de pointe conçu pour améliorer les performances et la fiabilité. Elle est essentielle au développement et à la réalisation de dispositifs semi-conducteurs et d'une large gamme de matériaux et de substrats tels que le silicium, l'arséniure de gallium et les couches minces. KLA 5200XP possède une architecture de conception brevetée unique qui comprend un système d'imagerie macroscopique à tranches multiples, une puissante unité d'acquisition et de traitement d'images, une machine d'interférométrie avancée et un logiciel de métrologie entièrement personnalisable. Cet outil dispose d'un support d'imagerie haute résolution et de capacités de mesure, qui comprennent le tracé automatique de topographie d'échantillons et la cartographie de superposition. Il utilise un algorithme bidimensionnel de détection de défauts avec une haute résolution de pixel et un rapport signal sur bruit de 16 bits et une caméra CCD de 4 mégapixels. L'aberration du front d'onde et la décomposition de Zernike sont également incluses pour mesurer des facteurs tels que la rugosité de surface, la planéité, la puissance, le rayon de courbure, le défocus, l'astigmatisme et l'inclinaison. Tous les paramètres sont facilement paramétrés via une interface tactile conviviale. TENCOR 5200 XP est conçu avec une mémoire interne extensible, et il peut stocker jusqu'à 30 000 images. Le dispositif supporte à la fois le flux de données vers un ordinateur externe et le fonctionnement autonome. Il dispose également d'un atout autofocus avec des modes avancés auto-zoom, pan et inclinaison, pour optimiser la visualisation des échantillons avec un minimum d'effort, et l'unité est capable de mesurer des tailles d'échantillons jusqu'à 10 pouces de diamètre. L'installation, le nettoyage et l'entretien sont faciles, grâce au plateau robotique de taille variable, et le modèle comprend jusqu'à un pompage à sec de niveau moyen pour des environnements à forte contamination. En outre, 5200XP wafer testing and metrology equipment has standard IEEE communications, ainsi que toute une gamme d'autres options, telles que la connectivité sans fil, la sécurité des liaisons de données et le diagnostic à distance, en ligne. KLA/TENCOR 5200 XP est le choix idéal pour une large gamme d'applications de test et de métrologie des plaquettes, y compris la caractérisation IC des appareils mobiles, l'analyse des défaillances, le dépannage des processus et l'analyse des rendements. Il offre des performances plus rapides que jamais et des résultats très précis, avec un niveau de fiabilité inégalé, contribuant à réduire les coûts et à augmenter les rendements des appareils.
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