Occasion KLA / TENCOR 5300 #9194881 à vendre en France

KLA/TENCOR 5300 est la dernière solution d'essai et de métrologie de plaquettes. Cet équipement est conçu pour des essais non destructifs dans des processus de production de semi-conducteurs pour répondre aux besoins de très petites tailles de fonctionnalités sur des conceptions avancées. Grâce à la technologie exclusive combinée à la capacité de mesure non destructive et à la métrologie automatisée avancée, KLA 5300 peut rapidement identifier les défauts dans les plaquettes de toute taille ou forme dans les tailles de 3 « à 8 », y compris les matériaux monocristallins, polycristallins et céramiques. Le système comprend des composants mécaniques et optiques qui lui permettent de mesurer avec précision la forme de la plaquette et les niveaux de référence sur plusieurs positions. Il dispose également d'un laser vert et d'une caméra 4K qui capturent des milliers de défauts, particules et anomalies de surface sur la plaquette sans effort supplémentaire nécessaire à l'opérateur. Le gestionnaire robotique et les logiciels avancés permettent à TENCOR 5300 d'inspecter des échantillons plus gros que la normale, y compris des substrats plus gros et des échantillons d'arséniure de gallium, tout en étant capable de détecter avec précision les défauts. 5300 fournit également une suite d'algorithmes de haut niveau qui permettent l'identification et la correction automatisées des anomalies. Ceci fournit un flux de travail hautement automatisé qui fournit une inspection des défauts cohérente et précise. De plus, l'unité est capable de balayer plusieurs couches d'une même plaquette en même temps, et la fonction de balayage multicouche fonctionne sans mise en place manuelle. Cela peut considérablement accélérer la détection des défauts. KLA/TENCOR 5300 a des capacités de métrologie pour des petites tailles de fonctionnalités aussi petites que 2 µm, ce qui est particulièrement important pour l'inspection de petites tailles de fonctionnalités submicroniques qui deviennent plus courantes sur les conceptions de technologies avancées. Enfin, la machine fournit également le contrôle statistique des processus (RCP), un outil puissant qui permet à l'utilisateur de suivre les caractéristiques des plaquettes et d'avoir des aperçus sur les anomalies qui peuvent survenir, qui peuvent être utilisés pour améliorer le processus global. En conclusion, KLA 5300 est l'outil ultime de métrologie de wafer avancée qui peut fournir à la fois la précision et la vitesse tout en étant en mesure d'inspecter des milliers de défauts et de particules avec précision et efficacité. C'est la solution idéale pour répondre au besoin de conceptions avancées qui nécessitent de très petites tailles de fonctionnalités.