Occasion KLA / TENCOR AIT II #9227399 à vendre en France

KLA/TENCOR AIT II est un système d'essai et de métrologie des plaquettes de pointe conçu pour mesurer et analyser les dispositifs sur une surface de plaquettes jusqu'à des résolutions nanométriques. Il est capable de combiner plusieurs types de techniques de métrologie et de contrôle optique en un seul passage, ce qui lui permet d'identifier et de mesurer diverses formes, tailles et caractéristiques de différents dispositifs sur la plaquette, y compris des transistors, des résistances, des condensateurs et d'autres composants semi-conducteurs. KLA AIT II s'appuie sur une combinaison d'imagerie haute résolution, combinée à une métrologie optique avancée, pour obtenir des résolutions au niveau du nanomètre. Il est composé d'un étage de plaquettes, d'un ensemble de microscopes 3D et d'une unité principale qui abrite l'optique laser, la caméra optique et un contrôleur. L'étage de la plaquette tient la plaquette tandis que l'ensemble du microscope 3D dispose d'un objectif haute résolution qui peut mesurer la position exacte des caractéristiques microscopiques sur la plaquette. Cela permet au microscope de mesurer avec précision la forme, la taille et les autres caractéristiques des éléments sur la surface de la plaquette. L'unité principale de TENCOR AIT II abrite l'optique, y compris le capteur laser, la caméra optique et le contrôleur. Le capteur laser utilise une lumière laser de faible puissance pour révéler des caractéristiques particulières sur la surface de la plaquette. Cette lumière éclaire les caractéristiques de la surface de la plaquette d'une manière qui permet au logiciel de les détecter. L'optique de la caméra permet à l'utilisateur de prendre des photos de la surface de la plaquette, qui peut être utilisé pour créer des images détaillées. Enfin, le contrôleur agit comme le « cerveau » du système, contrôlant le fonctionnement du Wafer Stage, de l'ensemble microscope 3D, du capteur laser, de la caméra et de l'optique. L'AIT II est conçu pour réduire la récupération et les rejets des wafers, réduire les temps de cycle et améliorer les rendements et le contrôle des procédés. Il peut détecter des caractéristiques de l'ordre de 88 nanomètres ou mieux, avec un champ de vision de 150 mm, ce qui en fait un outil idéal pour la caractérisation des procédés et des dispositifs. Il peut également être utilisé pour identifier les modes de défaillance potentiels avant qu'ils ne deviennent un problème, et aider les fabricants à éliminer ou à réduire les pertes de rendement futures. Dans l'ensemble, KLA/TENCOR AIT II est un système avancé d'essai et de métrologie de plaquettes de métrologie qui permet de recueillir rapidement et avec précision des données jusqu'à des résolutions d'échelle nanométrique. Il est conçu pour augmenter les rendements des dispositifs et réduire les rejets, ce qui en fait un investissement précieux pour les opérations de fabrication.