Occasion KLA / TENCOR AIT XUV #9113703 à vendre en France
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ID: 9113703
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Wafer inspection systems, 12"
(2) Load ports
Spot size: 3.5 um, 5 um, 6 um
Laser: 364 nm 90 mw
Resolution: 130 nm
(3) Channels defector:
Normal channel
(2) DF Channels
2006 vintage.
KLA/TENCOR AIT XUV est un équipement d'essai de plaquettes et de métrologie. Il fournit un aperçu unique des caractéristiques micro et nanométriques des circuits intégrés avancés et d'autres matériaux nanostructurés. Grâce à la technologie des semi-conducteurs de plus en plus petite, KLA AIT XUV fournit des capacités de métrologie en temps réel utilisant les techniques d'imagerie photovoltaïque, électronique et ionique de State Of The Art (SOTA). Il a la capacité de mesurer les structures des appareils jusqu'à l'échelle du nanomètre et offre une acquisition rapide des données grâce à sa conception à haut débit. TENCOR AIT-XUV dispose d'un accélérateur de particules miniaturisé capable d'effectuer directement l'imagerie ionique sur plaquettes, l'imagerie de contraste par canalisation d'électrons et l'inspection des rayons X. Le système comprend également un microscope à particules chargées à haute résolution pour les images topographiques à haute résolution. L'unité est idéale pour analyser les performances de l'appareil, ainsi que pour optimiser les structures de l'appareil. Il fournit également des informations 2D et 3D complètes à partir d'images haute résolution de couches superficielles et enterrées. La machine offre une technologie avancée de nettoyage rapide et sûr, ce qui permet aux utilisateurs d'identifier et de nettoyer les contaminants de matériaux à la surface de leurs produits. De plus, l'outil offre un mode à haut débit pour l'inspection rapide du débit, ainsi que des algorithmes de traitement du signal à faible bruit pour l'intégrité des données et l'amélioration de la précision. AIT-XUV utilise une conception multiplexeur pour augmenter le débit d'échantillons et permettre le balayage simultané de puces multiples. L'échantillon est soigneusement chargé et déchargé à l'aide d'un outil d'alignement indirect laser hautement configurable pour assurer le positionnement et l'enregistrement précis de chaque partie, ce qui répond aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs en termes de précision d'image, de résolution, de répétabilité, de débit et de sensibilité. De plus, KLA/TENCOR AIT-XUV propose des chambres à vide à température contrôlée avec capteurs de pression, moniteurs de flux et régulateurs de température. Dans l'ensemble, KLA AIT-XUV est un outil fiable et polyvalent pour l'examen détaillé des nanostructures. Il offre des capacités d'analyse de haute précision et de haut débit, ce qui en fait le choix idéal pour la caractérisation microscopique des circuits intégrés et des matériaux avancés.
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