Occasion KLA / TENCOR Alpha Step 200 #293600510 à vendre en France

KLA/TENCOR Alpha Step 200 wafer testing and metrology equipment est un système de test et d'analyse automatisé capable de mesurer les propriétés électriques et physiques des dispositifs semi-conducteurs. L'unité utilise la microscopie à contraste différentiel (DIC) et les techniques de diffusion optique pour mesurer les propriétés électriques, mécaniques et structurelles sur une gamme de substrats. La machine fournit également une analyse de données pour détecter les non-uniformités et est capable de détecter la défaillance prématurée de certains dispositifs. KLA ALPHASTEP 200 utilise plusieurs techniques d'essai différentes dont SEM/ESEM, SEU, OBIRCH et EBIRCH. SEM et ESEM sont des techniques de microscopie électronique à balayage utilisées pour détecter les défauts électriques, mécaniques et structurels dus aux films de surface, métalliques et isolants. SEU et OBIRCH sont des techniques de spectrométrie électronique à balayage pour analyser les propriétés électriques et physiques telles que la résistance des feuilles, la capacité inter-couches et la résistance de contact. EBIRCH (Electron Backscattering Imaging) est utilisé pour détecter des images à haute résolution de films minces et de défauts. TENCOR ALPHA-STEP 200 utilise un grand champ de vision (FOV) qui permet de tester jusqu'à huit échantillons par unité de surface. Cela permet la concentration la plus élevée de points de mesure par échantillon, le débit le plus élevé et la meilleure uniformité. L'outil est capable de détecter avec précision de petits défauts jusqu'à 1 micron. L'actif utilise également un détecteur de sensibilité élevée qui est capable de détecter de petits changements dans les propriétés de l'échantillon en raison du vieillissement et des influences environnementales. KLA Alpha Step 200 dispose d'outils d'imagerie avancés pour soutenir l'analyse et la visualisation des défauts. Le modèle dispose d'algorithmes automatisés de piquage d'images qui permettent la création de cartes de grande surface à partir d'images individuelles. L'équipement utilise également de puissants outils d'analyse de données tels que des mesures transversales, des statistiques, des indices calculés et des mesures de temps. Ceux-ci fournissent un résultat de défaut automatique dans les semi-conducteurs et les diélectriques. Ce système est idéal pour la détection des variations de rendement ou de processus, la mesure des propriétés physiques, y compris la topographie de surface, les couches minces et les caractéristiques électriques. Son fonctionnement robuste et son débit optimal en font le choix idéal pour améliorer le rendement dans les environnements de production les plus exigeants.