Occasion KLA / TENCOR Alpha Step 200 #9315702 à vendre en France

KLA/TENCOR Alpha Step 200 wafer testing and metrology equipment est conçu pour fournir des mesures très précises et fiables pour une large gamme d'applications de semi-conducteurs et de MEMS. Utilisant des algorithmes et des systèmes optiques KLA Advanced Vision, KLA ALPHASTEP 200 offre une précision et une vitesse inégalées dans un ensemble compact et facile à utiliser. Le système dispose d'une méthode brevetée d'inspection sans contact des plaquettes, permettant une mesure rapide et fiable des paramètres critiques tels que la dimension critique (CD) et le décalage des marques de recouvrement, ainsi que la réponse spatiale et temporelle des plaquettes traitées en surface. TENCOR ALPHA-STEP 200 utilise un détecteur CCD (Integrated Charge Coupled Device) et plusieurs détecteurs montés sur un plateau de précision pour fournir un grand champ de vision. En outre, l'unité est équipée d'une conception optique à forte ouverture numérique (NA) et fournit à la fois multi-longueur d'onde et éclairage multi-cristaux. Les algorithmes avancés de Vision permettent à la machine de détecter et de discerner des motifs à une résolution extrêmement élevée, avec des mesures précises à 0,5 nanomètres. Cela permet des mesures fiables et précises des surfaces minces et épaisses des films, et permet à l'outil de mieux détecter et isoler les caractéristiques structurelles telles que les lignes photorésistantes, les coupes et les coins tranchants. L'actif offre un large éventail de fonctionnalités et d'options, ce qui lui permet d'être adapté pour répondre à un éventail de besoins de tests et de métrologie. Il comprend une variété d'options pour contrôler les grossissements de balayage, les tailles d'étapes et les tailles de champ pour tenir compte des petites et grandes régions d'intérêt. ALPHASTEP 200 est également équipé d'une série de fonctionnalités d'automatisation logicielle, qui permettent des tests à haut débit et efficaces. En résumé, le modèle TENCOR ALPHASTEP 200 wafer testing and metrology est conçu pour une mesure rapide et fiable des paramètres critiques et des caractéristiques structurelles dans les applications semi-conductrices et MEMS, offrant un niveau de précision et de vitesse sans précédent. Les algorithmes logiciels avancés de Vision et les détecteurs CCD haute résolution permettent à l'équipement de détecter et de discerner de manière fiable les motifs à un niveau de sous-microns, et permettent l'automatisation pour des tests à haut débit et efficaces.