Occasion KLA / TENCOR ASET F5x #9229841 à vendre en France
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ID: 9229841
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
Thin film measurement system, 12"
Dual cassette open handler
Wafer handling, 6"
Wafer handling with handler charge, 12"
Spectroscopic ellipsometer
Pattern recognition
Operating system: Windows XP
Computer: Pentium 1.25 GHz
SCSI Hard drive: 80 GB
DVD/RW Drive
DRAM: 1 GB
Flat panel LCD display
Keyboard and trackball
Ethernet PCIA Card
Multi layer film capacity
Micro spot optics
Scanning stage
Wafer mapping
In-situ capability
Controller type: PC / VME
Operator manual
DBS Spot sizes: 2.7, 10, 40 um
XENON Light source
Wavelength range: 220 nm to 800 nm
2003 vintage.
KLA/TENCOR ASET F5x est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes qui fournit des mesures rentables, à haut débit et précises des plaquettes semi-conductrices. Cela permet une analyse rapide et précise des performances et des rendements des processus de production. Le système comprend plusieurs sous-systèmes, dont l'imagerie optique, la métrologie et l'examen des défauts. Le sous-système optique utilise une technologie d'affichage complète et à la fine pointe de la technologie, qui fournit une résolution supérieure et la détection des défauts sur la plaquette. Cela inclut l'utilisation de capteurs à haute efficacité quantique de type CMOS (Charge-Coupled Device), avec des niveaux de bruit de fond améliorés pour fournir une précision et un contraste améliorés. Outre l'imagerie optique, l'unité offre également une combinaison unique d'algorithmes d'analyse d'image pour optimiser la classification et détecter les défauts potentiels. Le sous-système de métrologie fournit une détermination très précise des paramètres critiques des dispositifs. Il est capable d'échantillonner à partir d'une grande surface et d'évaluer le débit d'une gamme de tailles et d'épaisseurs de plaquettes. Cette machine offre également une cartographie supérieure des plaquettes ainsi que la capacité de caractériser en détail une région particulière d'une plaquette en utilisant l'imagerie plein champ. Le sous-système d'examen des défauts intègre des mesures avancées de la qualité de l'image et des techniques statistiques de validation des défauts pour aider à identifier et à classer avec précision tout problème potentiel. Il est capable de fournir une analyse complète du type de défaut, de la tendance, de l'occurrence, de la région, de l'origine et de l'emplacement. Le sous-système fournit également une solution logicielle puissante pour gérer et affiner efficacement les recettes d'essai, en veillant à ce que tout problème potentiel soit rapidement identifié. En conclusion, KLA ASET-F5X wafer testing and metrology tool est un instrument avancé qui fournit des mesures fiables, précises et rentables des wafers semi-conducteurs. L'actif permet de contrôler efficacement le processus de production, de réduire les déchets et d'améliorer les rendements. Ses capacités très précises d'imagerie, de métrologie et d'examen des défauts en font un outil inestimable pour toute installation de fabrication de semi-conducteurs.
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