Occasion KLA / TENCOR C2C #9187559 à vendre en France

KLA/TENCOR C2C (Critical Dimension and Critical Overlay metrology) est une solution dédiée aux essais automatisés de plaquettes et à la métrologie. Il est conçu pour fournir au fabricant des informations détaillées sur la structure physique des composants semi-conducteurs (plaquettes). Il convient à la fois à la production de masse et au développement de processus. L'équipement KLA C2C utilise deux technologies de pointe en combinaison pour l'essai de plaquettes et la métrologie : la scattométrie et la microscopie électronique à balayage de dimensions critiques (CD-SEM). La scatterométrie est utilisée pour mesurer les dimensions critiques des structures à la surface de la plaquette. Il utilise une combinaison d'un laser et d'un photodétecteur pour détecter les changements dans la lumière rétrodiffusante de la plaquette. Cette technique est particulièrement utile pour mesurer des motifs de pas fin sur la plaquette et pour estimer la précision de placement des structures individuelles, en fournissant à l'utilisateur une image précise de la structure de la plaquette. La seconde technologie utilisée par le système est le CD-SEM. Cette technique utilise un microscope électronique à balayage pour mesurer le profil en coupe des structures sur la plaquette. Pour ce faire, on focalise un faisceau d'électrons sur une petite zone de l'échantillon, en fournissant une image haute résolution qui est analysée pour déterminer les dimensions précises des structures. Ceci est utile pour déterminer les tolérances et pour surveiller les éventuelles variations de processus entre des lots de plaquettes. L'unité C2C de TENCOR fournit également des mesures de métrologie de superposition automatisées utilisant des missions de dimension critique (CD) et de superposition. La mission permet à l'utilisateur de surveiller en ligne les performances des structures de recouvrement, en lui donnant une visibilité complète de l'alignement et des performances critiques de recouvrement. C'est essentiel pour tout fabricant qui doit produire des produits performants, cohérents et fiables. La combinaison de la scatterométrie et du CD-SEM fournit également à l'utilisateur un budget d'erreur qui peut être utilisé pour le contrôle des processus et le contrôle statistique des processus dans les environnements de production. Cette augmentation de l'efficacité des procédés peut réduire le coût de production et le risque de défaillance à long terme. Enfin, la machine C2C fournit une analyse détaillée des motifs sur la surface de la plaquette afin d'assurer une uniformité et une qualité de production élevée. Cela comprend l'analyse des caractéristiques, des lignes et des espaces isolés ; des caractéristiques isolées sur plusieurs couches ainsi que des caractéristiques aux formes complexes. Globalement, KLA/TENCOR C2C est une solution avancée conçue pour fournir au fabricant des informations détaillées sur la structure physique des composants semi-conducteurs (plaquettes). Il convient à la fois à la production de masse et au développement de procédés et offre une combinaison optimale de techniques pour déterminer les dimensions critiques et les superpositions. Il s'agit donc d'un outil puissant pour améliorer la qualité, l'efficacité et le rapport coût-efficacité des procédés de production de semi-conducteurs.