Occasion KLA / TENCOR F5 #9214704 à vendre en France

KLA/TENCOR F5 est un équipement d'essai et de métrologie au microscope à force atomique conçu pour la production et le développement de dispositifs semi-conducteurs. Le système fournit une plate-forme robuste pour les essais à haut débit et la caractérisation d'une gamme de tissus et de finitions de plaquettes. Il offre des mesures de haute résolution, répétables et sans contact des caractéristiques de la plaquette telles que l'épaisseur, la topographie de surface, la granulométrie et la diffusion. Les capacités logicielles intégrées de l'unité fournissent une analyse automatisée des mesures et des capacités complètes de gestion et de visualisation des données. La machine KLA F5 est composée de plusieurs composants, dont un matériel de plate-forme intégré, un capteur AFM et un logiciel de contrôle. Le matériel intégré se compose d'une tête AFM, d'une étape de balayage XY et d'une détection précise en hauteur Z. Les capacités sensorielles AFM avancées de l'outil lui permettent de scanner des surfaces transparentes et opaques, fournissant des images complexes et à haute résolution des caractéristiques des plaquettes avec un haut degré de précision. L'étape de balayage XY permet à l'actif de traverser rapidement de grandes zones de wafer, tandis que la détection z-hauteur positionne avec précision la tête AFM pour capturer les données. Le programme de contrôle logiciel intégré du modèle offre des capacités complètes d'automatisation et de gestion des données. Le logiciel permet aux utilisateurs de définir facilement des tests complexes, d'automatiser l'acquisition de données hautement reproductibles et de gérer de grands ensembles de données pour une comparaison robuste et une analyse statistique. Il fournit également de puissants outils de visualisation pour optimiser la conception des tests, évaluer les données et rendre compte des résultats. L'équipement TENCOR F5 est bien adapté à l'analyse des tissus et des procédés des plaquettes semi-conductrices, tels que la photorésistance, la gravure d'oxyde diélectrique et la diffusion. Il est également capable de surveiller les étapes du procédé de fabrication, telles que la lithographie, le dépôt de films et l'alignement des masques. Cela en fait une solution idéale pour l'évaluation des processus et l'analyse des défauts. Le système offre des capacités d'imagerie haute résolution et d'acquisition de données répétables, permettant la détection et la quantification fiables des défauts sur une plaquette et permettant un contrôle optimisé des processus. Ses fonctions automatisées d'acquisition et d'analyse de données peuvent être utilisées pour identifier et caractériser rapidement les défauts et analyser l'impact des variations de processus ou des modifications de conception.