Occasion KLA / TENCOR P1 #293590370 à vendre en France

KLA/TENCOR P1 est un équipement intégré de métrologie et d'essai de plaquettes conçu pour assurer une inspection et une métrologie des défauts de plaquettes pour les dispositifs à semi-conducteurs et MEMS. Le système combine une unité d'imagerie optique de pointe avec une gamme complète d'outils de métrologie évolués et adaptatifs pour générer des données précises et détaillées sur un large éventail de structures et de caractéristiques de plaquettes. La machine permet une inspection rapide et efficace de centaines de structures et de caractéristiques de plaquettes sur une zone d'essai, permettant aux fabricants de puces d'identifier et d'isoler les défauts pour une analyse plus approfondie. L'outil d'imagerie optique avancé KLA P-1 offre une excellente résolution de petites caractéristiques et structures sur une seule plaquette. L'amortissement des vibrations de l'actif a permis un haut niveau de précision et de répétabilité sur de nombreuses images. Le modèle est également très adaptable, ce qui permet à l'utilisateur de choisir une variété de sources lumineuses, d'agrandissements et de sensibilités spectrales pour tenir compte de différentes caractéristiques des plaquettes. TENCOR P 1 facilite l'examen et l'analyse rapides des propriétés électriques des défauts et des grappes de défauts acquis au cours du processus d'inspection. L'équipement combine deux étages de positionnement automatique, qui sont combinés avec un étage de métrologie statique. Cela permet au système de cartographier rapidement et avec précision la position et la taille de plusieurs sites d'essai afin de déterminer les positions défectueuses qui peuvent être examinées et analysées. De plus, l'unité permet de comparer plusieurs plaquettes, ce qui permet aux utilisateurs d'identifier rapidement et avec précision les tendances des différentes caractéristiques des plaquettes. En outre, TENCOR P-1 offre des capacités de détection avancées. Ses multiples outils d'analyse peuvent détecter et caractériser un large éventail de défauts et de défauts associés aux propriétés électriques des composants. Parmi ces outils, on trouve des chimistries à impulsions laser avancées et des formulations chimiques de haute précision pour repérer les caractéristiques anormales et les écarts de matériaux. En outre, la machine dispose d'un ensemble unique de classificateurs de défauts sophistiqués, qui sont intégrés dans les algorithmes de l'outil, offrant une détection rapide et fiable d'une gamme presque illimitée de défauts et de défauts de plaquettes. En résumé, P-1 est un actif intégré de métrologie et de test de wafer conçu pour offrir des données détaillées sur un large éventail de structures et de caractéristiques de wafer. L'équipement d'imagerie optique supérieur du modèle et les outils de métrologie de haute précision permettent une identification et une analyse fiables des défauts et des grappes de défauts. En outre, ses capacités de détection avancées se combinent avec l'ensemble de classificateurs de défauts sophistiqués du système pour fournir une gamme presque illimitée de détection et d'analyse des défauts de wafer.