Occasion KLA / TENCOR P10 #293643963 à vendre en France
URL copiée avec succès !
KLA/TENCOR P10 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes conçu pour la métrologie et la lithographie des semi-conducteurs. Il utilise la technologie propriétaire de « multiplexage de longueur d'onde dense multi-longueurs d'onde (MW-DWDM) » pour la métrologie optique combinée et l'inspection des défauts, permettant une analyse rapide et précise des caractéristiques de lithographie et de métrologie des semi-conducteurs. Les composants de base de KLA P-10 sont ses capacités de balayage adaptatif en deux dimensions (2D), son système optique à haute sensibilité et ses outils d'analyse avancés. Le balayage adaptatif 2D de l'unité, combiné à la technologie MW-DWDM, permet de repérer rapidement et avec précision les sites défectueux et de cartographier les plaquettes. Le détecteur à haute sensibilité permet de réduire le volume de lumière nécessaire pour effectuer des mesures, tandis que les outils d'analyse avancés et les logiciels de contrôle automatisé de la machine peuvent rapidement identifier, évaluer et localiser les défauts dans les échantillons. TENCOR P10 utilise également un outil d'imagerie polarisé propriétaire pour détecter plus précisément les nouvelles anomalies et défauts de veille. Cet atout utilise quatre lentilles optiques et un balayage complémentaire haute résolution pour identifier les défauts subtils de métrologie et de lithographie. Le modèle d'imagerie polarisé offre une meilleure couverture des plaquettes et aide à réduire la diaphonie optique. Les capacités automatisées de détection des défauts de P 10 sont intégrées à l'équipement 'MetCam'de KLA/TERNOC, qui aide à détecter, classer et séparer les défauts de plusieurs couches en un seul balayage. Les algorithmes uniques de MetCam peuvent détecter et classer avec précision les défauts et les caractéristiques, réduisant ainsi les taux de fausses alarmes coûteux. KLA P10 dispose également d'un système de métrologie optique avancé, combinant des capacités de focalisation automatique et de cartographie automatisée pour des mesures précises et une cartographie rapide des plaquettes. La manipulation efficace des échantillons et la machine optique de l'unité permettent de traiter plusieurs plaquettes en quelques minutes, permettant une acquisition et une analyse de données efficaces et économiques. KLA/TENCOR P-10 est adaptable à une variété de formats d'échantillons, ce qui le rend idéal pour une gamme d'applications. Son architecture modulaire et ouverte lui permet d'être agrandie ou réduite pour répondre aux besoins d'applications spécifiques. La KLA P 10 est conçue pour être rentable et sa construction robuste la rend fiable et durable. En conclusion, P-10 est un outil de test et de métrologie de plaquettes de haute performance qui permet une analyse rapide et précise des caractéristiques de lithographie et de métrologie des semi-conducteurs. Il offre des fonctionnalités avancées, y compris une détection robuste des défauts, une manipulation efficace des échantillons, une métrologie optique haute résolution et un logiciel de contrôle automatisé pour l'acquisition et l'analyse rapides des données. Sa conception modulaire, adaptable et peu coûteuse en font une grande valeur pour toute application de métrologie et de lithographie à semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques