Occasion KLA / TENCOR P10 #293807273 à vendre en France

KLA/TENCOR P10 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes conçu pour fournir des mesures de haute performance et de précision des paramètres critiques du processus sur les plaquettes semi-conductrices pendant la fabrication. Il utilise des techniques avancées de métrologie laser, réflectomètre et scatterométrie pour recueillir des données extrêmement précises à chaque étape de traitement. Ces données sont utilisées pour améliorer la production et le rendement des plaquettes ainsi que le contrôle des procédés. Le système KLA P-10 est composé d'un sous-système principal : la chambre principale, la table optique, l'unité de traitement des plaquettes, le sous-système source laser, le sous-système d'échantillonnage/mesure des plaquettes et le sous-système de traduction des données. La chambre principale abrite la table optique et la machine de manutention des plaquettes, et elle est optimisée pour une basse température et une faible vibration. La table optique est construite en granit ultra-faible masse optiquement plat et contient l'optique d'échantillonnage/mesure de la plaquette, telle que le sous-système source laser et un outil télédioptrique. Le sous-système laser-source se compose d'un laser, d'un réflectomètre et de diverses optiques de détection. Il est conçu pour recueillir des données précises de la source laser sur les plaquettes. L'outil de manutention de la plaquette est un modèle motorisé 12 axes avec un coupleur à fibre optique, qui assure le mouvement dans les 6 directions et 3 angles. Le sous-système d'échantillonnage/mesure des plaquettes contient le porte-plaquettes, la chambre d'échantillonnage/mesure, le réseau lumineux et plusieurs organes réglables. Le tableau de lumière est composé d'une série de lentilles et de sources lumineuses qui sont précisément détaillées. Le sous-système de traduction des données convertit les données mesurées en informations structurées qui peuvent être analysées en vue d'une optimisation ultérieure des processus. L'équipement TENCOR P 10 est conçu pour atteindre une précision et une répétabilité élevées. Il est capable d'analyser différentes profondeurs de plaquettes de quelques microns à plusieurs centaines de microns, ainsi que de fournir des mesures d'uniformité sur l'ensemble de la plaquette. Les algorithmes avancés dans P-10 système permettent également une cartographie précise des paramètres des plaquettes. L'unité de mesure est équipée d'une machine d'imagerie à résolution de 0,2 micron pour explorer les masques et les systèmes. Dans l'ensemble, KLA P 10 wafer testing and metrology tool est conçu pour fournir des données précises et très précises sur les paramètres de traitement des wafer, permettant un meilleur contrôle des processus et des rendements plus élevés des wafer. Grâce à ses techniques avancées de métrologie laser, réflectomètre et scatterométrie, cet atout peut fournir un record fiable et traçable pour la fabrication de semi-conducteurs.