Occasion KLA / TENCOR P10 #9035604 à vendre en France

KLA/TENCOR P10 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes haute performance conçu pour les essais avancés de dispositifs à semi-conducteurs frontaux. Il dispose d'un système de métrologie optique très fiable qui est capable de mesures de niveau de plaquettes et de pixels extrêmement précises sur une large gamme de plaquettes semi-conductrices jusqu'à 200 millimètres de taille. L'unité dispose d'une machine de vision avancée qui permet la détection et l'analyse de caractéristiques aussi petites que quelques nanomètres, avec la capacité de mesurer les caractéristiques de niveau de la plaquette et les motifs de résistance. KLA P-10 est composé de plusieurs composants différents qui travaillent ensemble pour fournir des mesures de métrologie précises. Ses caractéristiques de métrologie optique sont alimentées par un moteur optique plein champ, doté d'un outil Continu Optimized Wafer Trajectory (COWT) qui permet des mesures plein champ. Cet atout COWT est conçu pour éliminer les aberrations, ce qui garantit des mesures précises sur les plaquettes avec différentes formes et niveaux de complexité. De plus, TENCOR P10 est couplé à un module d'imagerie avec un modèle WEL (Wafer Extremity Level) qui permet de mesurer avec précision les niveaux critiques des plaquettes. KLA/TENCOR P 10 dispose également d'un équipement d'éclairage leader dans l'industrie composé de sources naturelles et artificielles qui sont conçues pour fournir des mesures cohérentes sur toute la surface de la plaquette. Le système contient également une unité Low Angle Long Pitch (LALP), qui minimise les distorsions d'image dues à la courbure sur les plaquettes modernes, assurant des mesures précises à n'importe quel angle. P-10 est conçu pour mesurer une variété de paramètres, y compris la taille des défauts, les caractéristiques de forme, l'épaisseur du film, la résistivité, et plus encore. Il utilise la technologie Optic Security Version (OSV) pour fournir un environnement de données sécurisé pour l'analyse confidentielle des résultats des essais. La technologie OSV intègre des capacités de cryptage, d'authentification et de réseautage sécurisé qui protègent les données des utilisateurs contre les interférences extérieures potentielles. En termes de performance de la machine, KLA/TENCOR P-10 fournit une métrologie haute vitesse en plein champ, avec un temps de lecture de 40 wafers par heure, et une précision de +/- 1nm, ce qui en fait un outil de test et de métrologie efficace et fiable pour les wafers. Cet atout a une interface utilisateur très simplifiée qui permet un fonctionnement facile de l'équipement, ainsi que la capacité de stocker et de visualiser les résultats de test qui sont facilement exportables pour une analyse plus approfondie.