Occasion KLA / TENCOR P10 #9248606 à vendre en France

KLA/TENCOR P10 est un équipement sophistiqué et automatisé d'essai de plaquettes et de métrologie utilisé pour identifier et caractériser les plaquettes de semi-conducteurs dans les noeuds technologiques de pointe. Ce système fonctionne en scannant optiquement des images haute résolution de chaque plaquette pour détecter les défauts liés au processus. En outre, l'unité KLA P-10 offre des capacités avancées d'analyse de données pour construire des modèles d'inspection qui peuvent détecter même les plus petits défauts. Les composants principaux de la machine TENCOR P10 sont le processeur de diagramme de blocs (BDP), le sous-système d'imagerie laser (LIS), le sous-système optique et le sous-système de métrologie. Le BDP est un composant spécialisé qui contrôle les différentes composantes de l'outil TENCOR P10 et traite les résultats des sous-systèmes LIS et optiques. Il est également responsable du fonctionnement global de l'actif TENCOR P-10 et de la gestion des données générées par le modèle. Le sous-système d'imagerie laser (LIS) des équipements P10 est constitué d'un laser pulsé, d'un étage de balayage et d'une lentille télécentrique. Ce sous-système fournit une imagerie automatisée à haute résolution des plaquettes qui peuvent détecter même les plus petits défauts. Le laser utilisé dans le LIS est typiquement une longueur d'onde de 515 nanomètres, qui est sensible à une large gamme de caractéristiques de défaut, y compris celles associées à des défauts liés au procédé. Le sous-système optique du système KLA P10 est responsable de l'interprétation et de l'analyse des données obtenues à partir du LIS. Ce sous-système contient deux composants principaux : le moniteur de défaut et le moniteur de couleur. Le moniteur de défauts est utilisé pour identifier les défauts liés au processus sur les plaquettes. Le moniteur couleur est utilisé pour mesurer la variation de couleur entre les différentes plaquettes. Le sous-système de métrologie est un outil d'analyse de données qui prend les données générées par le LIS et applique des algorithmes mathématiques pour extraire des informations sur les caractéristiques de défaut de la plaquette. Ce sous-système peut être utilisé pour développer des modèles qui identifient même les moindre défauts liés au processus. L'unité P10 est un outil extrêmement puissant pour identifier les défauts liés au processus. Il combine imagerie haute résolution, algorithmes sophistiqués, et de puissantes capacités d'analyse de données pour fournir une solution complète pour le contrôle de la qualité dans les nœuds de technologie avancée. Cette machine peut être utilisée pour assurer des rendements élevés et des performances de produit robustes, ce qui est essentiel dans l'industrie de fabrication de semi-conducteurs hautement compétitive.