Occasion KLA / TENCOR P10 #9410631 à vendre en France

KLA/TENCOR P10 Wafer Testing and Metrology Equipment est un outil d'inspection et de métrologie de plaquettes de haute performance conçu pour réduire les défauts de fabrication et les pertes de rendement. Le système utilise des technologies automatisées d'inspection optique et de métrologie pour identifier, classifier et mesurer les caractéristiques des plaquettes à semi-conducteurs. L'unité se compose d'un outil avancé d'inspection et de mesure à double face qui est capable de scanner et d'analyser rapidement les micro-cavités, TSV et Bond Pads et d'autres caractéristiques sur le substrat. La machine KLA P-10 utilise un large éventail de systèmes et de technologies d'imagerie, y compris la scatterométrie, le champ lumineux et l'imagerie en champ sombre, pour identifier et localiser rapidement et précisément les défauts du produit, comme les points manquants, les défauts de ligne et les trous de pincement avant qu'ils puissent atteindre le produit final. Toutes les images sont stockées dans un outil d'archivage d'images S3-based pour une recherche et une révision faciles. TENCOR P 10 comprend également un algorithme d'auto-classification permettant de détecter des formes, des périmètres de texte et des défauts. Cet algorithme permet à un utilisateur de classer rapidement les fonctionnalités en fonction de la taille, de la forme et de l'emplacement. Par exemple, il permet d'identifier les largeurs de ligne, les vides de contact et les trous de pincement. L'actif peut également être intégré à d'autres systèmes de l'UCK pour accélérer l'identification et la déclaration des défauts du produit. Le modèle TENCOR P10 est également équipé d'un certain nombre de capacités de métrologie, y compris la mesure et la répétabilité de l'épaisseur du film, la détection de la linéarité et les mesures de géométrie. La mesure de l'épaisseur du film est réalisée à l'aide d'un ellipsomètre et d'un analyseur multi-angles automatisés. Grâce à cet équipement, les mesures de précision des matériaux à couches fines et épaisses peuvent être rapidement acquises avec une grande précision. Les mesures de linéarité et de dimension critique sont acquises à l'aide d'un système automatisé d'interféromètres à balayage laser. Cette unité est capable de mesurer des largeurs de lignes et d'autres attributs dimensionnels sur une grande variété de surfaces de plaquettes. Pour les mesures de géométrie, la machine TENCOR P-10 est équipée d'un outil laser capable de mesurer les bords et les profils des plaquettes. KLA P10 Wafer Testing and Metrology Asset est également équipé d'un modèle complet de gestion des données, permettant aux utilisateurs d'accéder et d'analyser les données rapidement. L'équipement est également compatible avec différents outils de fabrication, ainsi que d'autres équipements de test, ce qui lui permet d'être adapté aux besoins de différents clients. Dans l'ensemble, le système KLA/TENCOR P-10 est un outil puissant et fiable qui peut aider à réduire les défauts et à améliorer les rendements dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. L'unité offre une gamme de fonctionnalités et de capacités, permettant aux utilisateurs de détecter rapidement et avec précision, classer et mesurer les défauts sur les plaquettes semi-conductrices avec une efficacité améliorée.