Occasion KLA / TENCOR P11 #293674887 à vendre en France

KLA/TENCOR P11 L'équipement d'essai et de métrologie des plaquettes est une étape d'inspection des plaquettes de haute précision conçue dans le but de fournir une analyse efficace et précise des défauts des plaquettes. Ce système est une plate-forme d'inspection intégrée à l'automatisation qui utilise l'imagerie optique et la mesure pour acquérir des images à large champ de la surface de la plaquette. Ces images sont ensuite analysées avec des techniques d'imagerie et de caractérisation de pointe pour scruter le matériau de la plaquette au niveau microscopique. Unité de test et de métrologie KLA P-11 Wafer se compose d'un étage de surface robuste et durable qui contient des optiques de précision pour éclairer, agrandir et contrôler la plaquette. Cette optique d'imagerie avancée améliore encore la résolution et le rapport signal sur bruit des images. De plus, l'étage de surface est très modulaire et peut être intégré dans les environnements d'inspection existants. Par ailleurs, TENCOR P11 comporte des algorithmes intuitifs de traitement de données et des cibles fab spécifiques pour une analyse rapide et fiable des échantillons. La machine utilise l'imagerie réfléchissante et la microscopie optique de diffusion pour la détection des défauts, avec un examen intuitif et la déclaration des données de défauts. Les algorithmes de traitement de données permettent d'analyser les défauts des nanoparticules au niveau d'une plaquette. En outre, P11 fournit également diverses fonctionnalités telles que le profilage de ligne et de bord. Ces fonctionnalités aident à déterminer la présence et la taille des défauts en mesurant leur luminosité et leur contraste. L'outil dispose également de capacités d'amélioration d'image, qui permettent d'observer les détails de profondeur et les bords à l'intérieur des matériaux analysés. En outre, P-11 Wafer actif de test et de métrologie fournit un soutien logiciel pour une gamme de plates-formes d'exploitation. Cela inclut les logiciels d'enregistrement/lecture de données, de traitement d'images et de simulation optique. Il est également préchargé avec une bibliothèque de fonctions d'imagerie et de mesure, et a la capacité d'intégrer d'autres logiciels d'analyse. Enfin, KLA/TENCOR P-11 dispose d'un modèle de commande de mouvement industriel intégré, qui améliore l'alignement des plaquettes, la vitesse de balayage et la précision. Cela permet aux utilisateurs de générer des cartes d'échantillons à haute résolution avec des mesures d'image améliorées. Dans l'ensemble, le matériel d'essai et de métrologie KLA P 11 Wafer est une solution fiable et axée sur la qualité pour l'analyse des défauts des échantillons à haute résolution. Avec des algorithmes intuitifs de traitement de données et des cibles spécifiques, KLA/TENCOR P 11 permet aux utilisateurs d'obtenir une détection efficace et précise des défauts à petite échelle microscopiquement. L'optique d'imagerie avancée améliore encore la résolution des images, et le système de contrôle de mouvement intégré améliore la vitesse de balayage et la précision. Avec la combinaison de fonctions intuitives, de support logiciel et de systèmes intégrés, KLA P11 offre une plate-forme fiable et puissante pour l'analyse des plaquettes.