Occasion KLA / TENCOR P11 #9188381 à vendre en France

KLA / TENCOR P11
ID: 9188381
Style Vintage: 1999
Surface profiler 1999 vintage.
KLA/TENCOR P11 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes haute performance conçu pour des procédés impliquant la fabrication de plaquettes de 300 mm. Le système est capable de fournir une grande précision et des résultats d'essai reproductibles qui sont essentiels pour la production de procédés haut de gamme. Il offre un haut niveau d'assurance qualité et est capable de tester des plaquettes de taille aussi petite que 10 nm. KLA P-11 propose des tests de wafer haute vitesse avec un débit rapide pouvant atteindre 10 wafers par minute, ce qui le rend idéal pour une fabrication à grande échelle. L'unité comprend également des contrôles automatisés de la qualité et des capacités d'analyse des données, ce qui permet aux utilisateurs de bien comprendre leur processus et de détecter rapidement les problèmes. TENCOR P 11 répond à un large éventail de besoins d'essais de plaquettes et de métrologie, avec une variété d'outils capables de tester la contamination des particules, en mettant l'accent sur la microscopie, l'analyse de surface et l'analyse chimique. La machine peut également fournir une gamme complète de capacités optiques et d'imagerie, y compris l'examen des défauts, l'inspection des particules, la binarisation et la mesure de l'épaisseur du film. L'outil offre également des capacités d'alignement et de positionnement de précision avec des systèmes d'autofocus et d'asservissement de grande capacité. Cela garantit que le processus d'essai est précis et répétable, et que tout défaut ou toute particule peut être correctement identifié et analysé. TENCOR P11 est également équipé d'une variété de capacités d'analyse de données, y compris une série complète d'outils d'analyse de données et de rapports. Cela permet aux utilisateurs de générer des rapports de test précis dans une variété de formats adaptés à leurs besoins spécifiques. Dans l'ensemble, P-11 est un actif d'essai et de métrologie de wafer très avancé conçu pour fournir des résultats précis et reproductibles qui sont essentiels pour la production de procédés à grande échelle. Le modèle peut gérer un large éventail de tâches d'essai et de métrologie, des essais de particules aux capacités optiques et d'imagerie, et fournit un ensemble complet d'outils d'analyse et de rapport de données pour une image complète du processus et pour détecter rapidement les problèmes.
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