Occasion KLA / TENCOR P15 #293825144 à vendre en France

KLA/TENCOR P15 Wafer Testing and Metrology Equipment est un système de métrologie à haut débit de pointe conçu pour inspecter les wafers semi-conducteurs. Il est équipé de technologies de métrologie optique avancées, de capacités d'imagerie haute résolution et de processeurs informatiques puissants qui permettent d'obtenir des résultats de métrologie extrêmement rapides et précis. L'unité est utilisée pour effectuer divers essais et analyses de plaquettes non transformées et traitées. Ces tests comprennent l'inspection des défauts, l'analyse des contraintes, la caractérisation des appareils, la gestion des rendements et les mesures des dimensions critiques. La machine KLA P-15 utilise des mesures de la lumière réfléchie au laser de 650 nm avec une résolution de 5 nm pour détecter et analyser les défauts. En capturant et analysant des images des plaquettes, l'outil TENCOR P 15 permet d'identifier et de mesurer des défauts et des caractéristiques telles que la largeur des lignes, ainsi que des anomalies. Les systèmes optiques et d'imagerie haute vitesse KLA/TENCOR P 15 sont capables de fournir des résultats jusqu'à 25 000 mesures de plaquettes par heure, ce qui permet une inspection rapide de grandes quantités de plaquettes. Les capacités de capture rapide de l'actif, associées à de puissants algorithmes d'analyse et d'analyse de données, lui permettent d'évaluer rapidement les paramètres critiques tels que la performance et la fiabilité de l'appareil. Le modèle KLA P 15 intègre également une gamme d'outils d'automatisation sophistiqués, permettant aux clients de personnaliser facilement les opérations et d'optimiser le débit. Les processus d'inspection traditionnellement difficiles et longs peuvent maintenant être complétés automatiquement pour maximiser l'efficacité de la production. TENCOR P-15 Wafer Testing and Metrology Equipment est conçu pour les industries semi-conductrices et les laboratoires de recherche processionnelle nécessitant des performances de haute précision, de haute précision et de métrologie rapide. Ses capacités sophistiquées et automatisées, combinées à ses capacités d'imagerie haute résolution, en font un choix idéal pour les processus de métrologie avancés.