Occasion KLA / TENCOR P2 #9007474 à vendre en France
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ID: 9007474
Automated long scan profilometer
Optic: 150-600X HI
Stylus force:
0: 226
10: 339
40: 557
100: 840
300µ Range: 0.9975
Scan length: 0.0000000
Backlash: 0
Drop timer: 27
Linearity:
A: 975
B: -350
Options:
Sequence / Data base manager option
Motorized level and rotation option
Measure micro-roughness with:
1 Å resolution over short distances scan: 210 mm (8.2")
PC / AT Computing power automatic measurement capability
Data storage
Data analysis
Includes:
Magnetic disks
Semiconductor wafers
Precision-machined and polished surfaces
Ceramics for micro-electronics
Glass for flat panel displays
Optical surfaces
Measurement of vertical ranging under 100 Å: 0.4 µin to ~0.3 mm (11 Mils)
With vertical resolution 1 / 25 Å: 0.004 / 0.1 µin
Measurements either metric / English
Independently for horizontal and vertical parameters
Does not include key lock
Power supply: 115 V, 4 A, 60 Hz, Single phase.
KLA/TENCOR P2 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes conçu pour une variété de procédés de semi-conducteurs et d'applications d'inspection des défauts. Le système fournit une solution complète d'analyse de défaillance avec la meilleure précision disponible. Il est capable de scanner toute la surface de la plaquette avec une haute résolution et précision. L'unité est alimentée par une technologie exclusive de traitement d'images spectrales KLA, qui lui permet de détecter et de caractériser les défauts liés au processus et au produit. La puissance de traitement de la machine lui permet de balayer toute la surface de la plaquette en quelques minutes. Il intègre des algorithmes propriétaires conçus pour améliorer le traitement de l'image et la précision et la vitesse de caractérisation des défauts. L'outil dispose également d'un logiciel intégré avancé comprenant la caractérisation des artefact, la priorisation des défauts, l'analyse statistique des défaillances et les capacités de tendance des défauts. L'actif dispose d'outils intégrés pour gérer et analyser jusqu'à 200k défauts de produit par heure avec de faibles taux de faux positifs et de faux négatifs. Le modèle est également conçu pour permettre aux utilisateurs de passer facilement entre les modes d'inspection, leur permettant d'optimiser son utilisation pour différents processus et applications. L'équipement intègre également la technologie brevetée TENCOR KORE™ qui fournit l'imagerie d'images spectrales à haute résolution. Il capture des images de toute la surface et fournit une analyse détaillée des paramètres optiques tels que les dimensions critiques (CD) et la rugosité de bord de ligne (LER). Le système comprend également un logiciel de métrologie optique puissant, donnant aux opérateurs une capacité sans précédent de caractériser avec précision les petits défauts tels que les particules, les dislocations, les hillocks et autres caractéristiques de topologie de ligne optique et de surface. L'unité offre également une gamme complète d'outils de classification automatique des défauts et d'analyse de la taille des défauts pour une caractérisation efficace et cohérente des défauts. En outre, la machine est conçue pour une intégration facile dans les systèmes de métrologie existants, permettant aux utilisateurs d'acquérir des données à partir de diverses sources. KLA P-2 est un outil incroyablement puissant pour l'inspection des défauts et les tests de plaquettes. Sa capacité à fournir des mesures de haute précision et précises des paramètres de défaut lui donne le bord au-dessus des méthodes traditionnelles d'essai des plaquettes. Avec ses capacités globales et ses technologies innovantes, l'outil est un outil incontournable pour toute fonderie semi-conductrice ou environnement de production.
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