Occasion KLA / TENCOR P2 #9163528 à vendre en France

KLA/TENCOR P2 est un équipement d'essai de plaquettes et de métrologie développé pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir des mesures précises des variables de processus sur une variété de matériaux d'échantillons, tels que les plaquettes GaAs, SiGe et SiC, ainsi que les échantillons d'imagerie MEMS et nanométrique. Il est capable d'effectuer des mesures tant sur les dimensions physiques que sur les caractéristiques électriques des substrats semi-conducteurs. Le système utilise une combinaison d'imagerie haute résolution, de gravure de tranchées profondes, de diagnostic optique intégré et d'un ordinateur de bord pour mesurer les paramètres détaillés de plaquettes telles que la topographie, la morphologie de surface, le dopage, la résistivité et la conductance électrique spécifiée. L'unité est capable de prendre des images haute résolution de la plaquette et de fournir simultanément des paramètres physiques et électriques détaillés de la plaquette, ce qui simplifie le processus de mesure et de caractérisation des plaquettes. La machine est équipée de technologies avancées d'interface logicielle et matérielle qui permettent une intégration facile dans les infrastructures de fabrication existantes. Cela inclut des fonctionnalités telles qu'un port Ethernet, un contrôle intelligent de l'hôte et une suite de logiciels d'analyse d'image. L'outil est capable de mesurer diverses variables de processus pour mesurer des caractéristiques électriques telles que la capacité, l'impédance, le déphasage et l'impédance. L'actif est conçu pour un débit et une précision élevés et est capable d'effectuer une analyse approfondie de nombreux types différents de composants semi-conducteurs en une seule séance d'analyse. Il est également équipé de capacités avancées de calibration et de gestion de calibration et permet des mesures de petites tailles de fonctionnalités. Les algorithmes mathématiques utilisés par le modèle permettent un calcul très précis des caractéristiques électriques et des données de performance pour une mesure et une analyse précises. En outre, l'équipement prend en charge les dernières méthodes de contrôle statistique des processus (RCP) et peut être utilisé pour repérer les variations de processus du produit et prendre des mesures correctives rapidement. Le logiciel qui accompagne le système permet l'analyse des données, la production de rapports et une surveillance étroite des variables de processus. Dans l'ensemble, KLA P-2 est une unité d'essai et de métrologie avancée conçue pour fournir des mesures précises des variables de processus sur une variété de composants semi-conducteurs. Il repose sur des technologies d'imagerie et d'analyse avancées et est idéal pour effectuer une analyse approfondie des wafers et d'autres composants. La machine est hautement personnalisable et offre une large gamme de fonctionnalités pour le contrôle statistique des processus et la mesure précise des caractéristiques électriques.