Occasion KLA / TENCOR SFX 200 #293587424 à vendre en France

KLA/TENCOR SFX 200 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes qui fournit la précision et le contrôle nécessaires à l'analyse des défaillances et à l'optimisation des processus. Idéal pour l'utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs, le système offre une variété de fonctionnalités avancées et d'avantages qui en font un choix de choix pour les concepteurs et les ingénieurs. Le cœur de l'unité KLA SFX 200 est un microscope électronique à balayage multi-zones (SEM) avec un détecteur d'électrons secondaire à haute résolution et une source d'électrons à vide élevé. La conception modulaire de la machine permet l'intégration de divers modules de préparation d'échantillons, tels que le nettoyage et le revêtement d'échantillons, pour une étude plus approfondie des échantillons de métrologie. La grande surface de travail de l'outil (200mm sur son champ de vision nominal) offre de la place pour plusieurs conceptions MEMS ou asset-on-chip tout en combinant des caractéristiques critiques telles que la résolution de sous-micromètres et l'automatisation. La grande variété de systèmes d'examen de plaquettes disponibles permet aux utilisateurs de concevoir et de personnaliser leurs systèmes pour répondre à des besoins spécifiques. Par exemple, le modèle utilise une méthode d'imagerie descendante sans contact, qui élimine la nécessité de préparer et de réparer des échantillons d'essai aperçus sur la surface de travail, tout en fournissant des mesures et des images précises. L'équipement utilise également des sources d'éclairage multiples pour identifier, caractériser et numériser tout défaut à la surface de la plaquette. Toutes ces fonctionnalités peuvent être configurées et programmées pour améliorer les tâches analytiques des enquêtes. L'interface graphique de TENCOR SFX 200 est conçue pour aider à suivre, analyser, rapporter et archiver les données de test avec un minimum d'effort. Le système offre une combinaison puissante d'outils d'acquisition de signaux, de visualisation de données et d'automatisation pour simplifier le flux de travail. La programmation en architecture ouverte permet d'intégrer facilement n'importe quelle plate-forme dans la configuration de test. Pour plus de valeur, l'unité est entièrement compatible avec le RCP optionnel, FDC et le logiciel d'analyse statistique. La fonction RCP garantit que les profils d'échantillons sont conformes aux protocoles, tandis que FDC quantifie l'exactitude et la répétabilité des paramètres d'essai et fournit des données significatives aux fins d'analyse. Le logiciel d'analyse statistique intégré aide également les utilisateurs à créer des corrélations, un comportement normalisé et des graphiques qui facilitent l'optimisation des processus et la caractérisation des défauts. Dans l'ensemble, la machine SFX 200 Wafer Testing and Metrology est une solution polyvalente et conviviale qui rend les tests et la métrologie plus rapides, plus faciles et plus précis. Avec son imagerie haute résolution et son vaste espace de travail, l'outil permet aux utilisateurs d'effectuer un diagnostic complet et de caractériser des appareils complexes. Les caractéristiques avancées de cet atout en font le choix idéal pour l'analyse des échecs et l'optimisation des processus.