Occasion KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9130299 à vendre en France

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 est un équipement d'essai et de métrologie de pointe utilisé pour mesurer, analyser et évaluer les wafers semi-conducteurs pour les défauts électriques, physiques et de fabrication. Le système appuie un large éventail d'activités de recherche-développement, y compris la lithographie avancée et le contrôle statistique des processus. L'unité KLA OP 2600 est une plate-forme de métrologie optique entièrement automatisée capable de mesurer les structures 2D et 3D. Il offre une précision métrologique, une vitesse et une fiabilité supérieures à celles des modèles antérieurs, permettant une précision et une fiabilité de mesure plus élevées que jamais. La machine TENCOR OP 2600 assure une surveillance avancée des performances des masques et des réticules et est capable de mesurer rapidement et avec précision les caractéristiques denses et isolées. Il offre également des capacités intégrées d'inspection des plaquettes Sub-Micron pour s'assurer que les plaquettes sont presque parfaites. L'outil peut mesurer des largeurs de ligne jusqu'à 0,03 micron avec une vitesse et une précision inégalées. En outre, THERMA-WAVE OP 2600 peut détecter des défauts tranchants et de largeur de ligne avec une vitesse et une précision supérieures. Les capacités d'outillage avancées permettent une analyse complète de l'image, permettant une analyse plus rapide et plus précise de divers masques et réticules. L'actif offre également la réflectométrie intégrée des domaines de fréquence optique (OFDR), permettant de mesurer les défauts physiques et électriques. Le module OFDR de l'OP 2600 peut détecter des défauts jusqu'à 0,2 micron de résolution, permettant l'identification et la quantification des défauts de niveau micron. En outre, le modèle est construit avec des capacités avancées telles que la cartographie 2D et 3D, la reconnaissance automatisée des bords et des motifs, et l'édition de type CAO pour l'analyse des données. L'équipement KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 est capable d'effectuer toute une gamme de tâches de métrologie au niveau des plaquettes, telles que la métrologie de la largeur des lignes, la métrologie de recouvrement, la détection et l'inspection des défauts, et la caractérisation 3D. Ce niveau de performance est particulièrement utile dans les environnements de production où un degré élevé de précision est requis. Le système est conçu pour soutenir le contrôle statistique des processus, permettant une traçabilité complète de chaque plaquette. Ce haut niveau de précision et de débit fournit un avantage sans précédent pour l'industrie des semi-conducteurs. Dans l'ensemble, l'unité KLA OP 2600 est une machine avancée d'essai et de métrologie de plaquettes, offrant une vitesse et une précision inégalées pour mesurer, analyser et évaluer les plaquettes semi-conductrices. Les capacités d'outillage avancées de l'outil, l'ensemble de solutions flexibles et l'excellente précision de la métrologie offrent une solution supérieure pour tout, de la recherche et du développement aux environnements de production.