Occasion KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9214770 à vendre en France

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes qui permet des mesures critiques sur les dispositifs semi-conducteurs. Ce système très précis est utilisé pour la recherche et le développement de puces de nouvelle génération et de circuits intégrés. Il utilise deux optiques pour mesurer des plaquettes, dont un microscope optique à balayage automatisé (ASOM) et un interféromètre à lumière blanche (WLI). L'ASOM est capable de produire à la fois des images de contour 2D et des cartes topographiques 3D de la surface d'un dispositif semi-conducteur. Il a une haute résolution jusqu'à 1nm tout en étant capable de distinguer des caractéristiques avec des hauteurs verticales aussi petites que 10nm, permettant un haut degré de précision et de précision. Le WLI est une technologie d'imagerie qui repose sur l'interférence de la lumière réfléchie pour créer une carte 3D d'une surface. Il est également capable de révéler les formes tridimensionnelles des micro-caractéristiques et de la rugosité de surface qui ne peuvent pas être vues sous un microscope optique. Le WLI a une résolution de 40nm et peut être utilisé pour mesurer la rugosité entre 0.2nm-2.0nm. KLA OP 2600 est alimenté par le programme ProgRScan, qui est un logiciel spécialement conçu pour la recherche de plaquettes et d'appareils. Il est capable de contrôler et de synchroniser l'ASOM et le WLI, et intègre plusieurs fonctions telles que la reconnaissance des fonctionnalités, la mesure des paramètres et l'analyse des données. Il permet également différentes méthodes d'analyse telles que l'analyse de régression, l'analyse histogramme et l'analyse des composantes principales. Ce logiciel est conçu pour être convivial et permet d'exporter facilement les résultats pour d'autres processus de la chaîne de production du fabricant. L'unité TENCOR OP 2600 est également entièrement automatisée, ce qui permet d'augmenter considérablement le débit de test tout en fournissant des résultats reproductibles avec un minimum d'effort de la part de l'utilisateur. Les processus automatisés avec cette machine aident également à réduire les erreurs associées aux processus manuels. De plus, il est en mesure de réduire considérablement le temps d'exécution et les coûts d'exploitation, comme le développement d'appareils et les essais de production. Dans l'ensemble, THERMA-WAVE OP 2600 wafer testing and metrology tool offre des mesures de haute précision pour la recherche et le développement de dispositifs et de semi-conducteurs. Il est capable de mesurer de manière fiable les plaquettes à très haute résolution, en fournissant la précision et le détail nécessaires au développement des puces de pointe et des circuits intégrés. De plus, ses processus automatisés aident à réduire les erreurs, à réduire les délais d'exécution et à accroître la rentabilité.