Occasion KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9214771 à vendre en France

ID: 9214771
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1994
Film thickness measurement system, 8" Multiple layers Refraction index Thick and thin film Extinction coefficient Reflectivity measurements (2) Cassette loader stations Thermoelectrically cooled diode laser: 675 nm Lamp: Tungsten halogen Measurements: Multi-layer and multi-parameter on thin ONO & OPO film stacks Polish slopes: 7 micron x 7 micron Wafer ranging: 4"-8" Thick dielectric films BPR >500A BPE <500A Spectrometry Visible: 450 nm-840 nm High index films: C-Si, Poly-Si, A-Si 1994 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes haute performance conçu pour fournir des mesures de plaquettes précises et fiables. Le système utilise l'optique avancée et la métrologie intégrée pour évaluer rapidement et avec précision les caractéristiques physiques des plaquettes, y compris l'épaisseur des matériaux, l'uniformité, la topographie, la rugosité et d'autres paramètres. L'unité offre une grande vitesse, mesure automatisée sans contact des couches minces de la plaquette et pour la caractérisation de la surface de la plaquette. Il dispose d'un processus automatisé d'étalonnage de précision pour assurer la précision des résultats, et est équipé d'une machine d'imagerie haute résolution pour fournir une résolution maximale des caractéristiques de la plaquette. L'outil est conçu pour être convivial, avec une interface utilisateur intuitive assurant un fonctionnement rapide et l'analyse des données. KLA OP 2600 utilise un étage 5 axes pour des mesures précises au niveau du nanomètre 3D et dispose de capacités de cartographie semi-automatique. Il peut stocker jusqu'à 8 plaquettes sur le processus de chargement/déchargement automatique, ce qui permet de tester de grands volumes de plaquettes et de les mesurer rapidement et facilement. L'actif peut mesurer des topographies de plaquettes jusqu'à une résolution de 0,5 um avec répétabilité nanométrique en dimensions 3D. Il comprend également une gamme de logiciels de métrologie spécialisés pour diverses mesures et techniques d'essai, tels que le contrôle de processus avancé, qui fournit une surveillance en temps réel des paramètres de processus pour assurer une qualité optimale de Wafer. En outre, il peut être intégré au logiciel RCP pour permettre une optimisation ultérieure des processus. TENCOR OP 2600 peut être configuré avec des outils de vision automatique et/ou des microscopes optiques pour l'analyse et l'inspection des défauts, et comprend une gamme d'options logicielles pour l'analyse d'imagerie avancée et la reconnaissance des défauts. En outre, le modèle peut être amélioré avec des paramètres personnalisés pour assurer la compatibilité avec les normes de l'industrie. Dans l'ensemble, THERMA-WAVE OP 2600 est une solution complète et abordable pour mesurer et analyser avec précision les caractéristiques des plaquettes. Il est conçu avec la technologie de métrologie et d'imagerie la plus avancée pour fournir des résultats précis avec un haut degré de répétabilité et de fiabilité. Il est adapté à une gamme d'applications de fabrication de plaquettes et fournit une solution efficace pour le contrôle de la qualité et l'optimisation des processus.
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