Occasion KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OPTIPROBE 2600 DUV #9200133 à vendre en France

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OPTIPROBE 2600 DUV est un équipement d'essai de plaquettes et de métrologie conçu pour l'imagerie et l'inspection avancées des ultraviolets profonds (DUV). Il offre un meilleur contrôle des processus, le rendement et le délai de mise sur le marché pour la production de pointe de dispositifs semi-conducteurs. Le système DUV KLA OPTIPROBE 2600 combine une optique avancée avec une unité d'imagerie et de microscope spectroscopique entièrement réfléchissante, avec un débit élevé et une dynamique supérieure à la moyenne. Cela lui donne une qualité d'image supérieure et une gamme dynamique pour des applications d'imagerie difficiles, telles que celles nécessitant des inspections et des superpositions de bas niveau. La machine est également équipée d'un ensemble d'ingénierie optique avancée, qui offre une optique haute performance sur une base de vol. Il est doté d'un design à faible vibration pour une configuration rapide et des changements rapides, d'un chemin optique optimisé et d'un outil avancé de positionnement multi-axes. L'actif contient également un certain nombre de capacités de métrologie avancées, qui sont conçues pour maximiser le contrôle des processus et l'amélioration du rendement. Il comprend : La métrologie automatisée des plaquettes, comparable aux systèmes plein champ, mais avec une plus grande polyvalence grâce à sa gamme de moniteurs de processus. Métrologie localisée, permettant des opérations de métrologie sur des zones ciblées de la plaquette avec une précision et une vitesse accrues. Algorithmes de focus-tracking dynamique, qui offrent une meilleure qualité d'image et une meilleure précision dans les fonctionnalités des appareils. Une imagerie intégrée à haute performance, qui facilite le transfert d'images entre le modèle et d'autres outils d'analyse pour plus de résolution et de clarté. L'équipement TENCOR OPTIPROBE 2600DUV est une solution idéale pour l'imagerie et l'inspection DUV de pointe, et peut fournir un traitement très efficace qui contribue à maximiser le rendement et le délai de mise sur le marché pour les applications critiques de semi-conducteurs. Il offre une qualité d'image exceptionnelle et une gamme dynamique ainsi que des capacités de métrologie avancées pour un large éventail de processus, et est un outil puissant pour assurer la qualité, les rendements et la rentabilité.