Occasion KLA / TENCOR / THERMA-WAVE TP 400 #293754104 à vendre en France

ID: 293754104
System, parts machine.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE TP 400 est un implant ionique et un moniteur conçu pour un contrôle précis et précis des processus d'implantation ionique. Cette machine est capable de fournir une implantation ionique de haute résolution et précise pour la fabrication efficace de composants, notamment la microélectronique, les écrans TFT et les cellules solaires. KLA TP 400 est composé de plusieurs composants - une source d'implantation d'ions, un moniteur, une unité de contrôle et un porte-échantillon. La source d'implantation d'ions est générée par un accélérateur d'électrons qui produit des ions à un niveau d'énergie spécifique, optimisant les propriétés de surface des matériaux d'implantation. Après la génération de la source, l'unité de surveillance est utilisée pour vérifier les résultats du processus. Cela se fait avec un spectromètre de masse quadrupolaire (QMS) et une analyse numérique des émissions (DEA). L'unité de contrôle est responsable du réglage des paramètres de performance du faisceau d'électrons, ce qui permet un contrôle complet de l'énergie, de la profondeur de l'implant et de l'uniformité de la dose par passage.L'unité de contrôle dispose également d'un ensemble de dispositifs de sécurité intégrés pour protéger l'objet implanté contre les erreurs de processus. Le porte-échantillon permet un contrôle complet du positionnement et supporte l'implantation d'une variété de tailles et de poids d'échantillons. TENCOR TP 400 dispose d'un design modulaire pour une installation et une maintenance pratiques, ainsi que d'un logiciel de contrôle intuitif pour un fonctionnement facile. Le système est construit avec des ressources informatiques puissantes pour assurer la précision et la stabilité des résultats. De plus, l'utilisation de la chambre d'isolation sous vide améliore la stabilité du procédé et évite les dommages aux composants délicats. TP 400 est un outil essentiel pour un contrôle précis et précis des processus d'implantation ionique. Grâce à ses technologies avancées, il est en mesure de fournir des résultats fiables avec une contamination minimale, améliorant le processus de production de différents types de composants.
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