Occasion NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT Q7 #293763616 à vendre en France

ID: 293763616
Taille de la plaquette: 8"
Metrology system, 8".
NANOMETRICS/BIO-RAD/ACCENT Q7 est un équipement de pointe d'inspection des masques et des plaquettes utilisé pour l'inspection des photomasques et des plaquettes. Ce système combine des capacités d'imagerie haute résolution et d'inspection automatisée pour fournir le plus haut niveau de précision et de précision pour détecter les défauts. Cette unité est équipée de systèmes optiques et d'imagerie avancés ainsi que d'algorithmes automatisés de prétraitement d'images et de détection de défauts. La machine est capable d'atteindre des vitesses d'inspection jusqu'à 10X plus rapides que les systèmes classiques et est conçue pour réduire le coût global de la propriété tout en améliorant le processus global d'inspection et de contrôle de la qualité. ACCENT Q7 utilise la technologie d'imagerie nanométrique brevetée pour obtenir des images ultra-haute résolution de zones à l'intérieur du masque ou de la plaquette. Cette technologie d'imagerie est capable de détecter des motifs submicroniques, ce qui fournit des inspections très précises et fiables. En outre, l'outil utilise des systèmes optiques et d'imagerie avancés pour assurer une imagerie fiable à haute résolution, ce qui permet à l'actif d'identifier et de classer avec précision tous les types de défauts. En outre, le modèle est équipé de capacités de pré-traitement automatisées qui permettent à l'équipement de corriger rapidement les défauts, réduisant le temps de post-traitement. BIO-RAD Q7 comprend également des algorithmes intelligents de traitement d'image pour détecter et classer rapidement et avec précision les défauts. Ces algorithmes sont optimisés pour isoler et classer avec précision les défauts dans le temps minimum, qu'ils soient nano-dimensionnés ou visibles à l'œil nu. En outre, le système est équipé de capacités avancées d'enregistrement des défauts, lui permettant d'attribuer des identifiants et des emplacements uniques à tout défaut détecté. Ceci est extrêmement utile pour établir des rapports détaillés des défauts identifiés afin de faciliter la détection et la correction des flux de processus. Le Q7 comprend également des fonctions d'automatisation avancées, comme l'examen automatisé, la classification des défauts et les mesures correctives. Cette unité est entièrement programmable et peut être configurée pour répondre aux besoins spécifiques des clients. En outre, la machine comprend un mode de calibrage et des fonctions d'isolation des défauts, ce qui lui permet de détecter rapidement les défauts ou les problèmes qui peuvent survenir au sein de l'outil. Enfin, la capacité de l'actif à effectuer plusieurs inspections sur différents masques en parallèle augmente encore le débit et la fiabilité du modèle. En conclusion, NANOMETRICS Q7 est capable de détecter et de classer rapidement et avec précision tous les types de défauts nanométriques et de fournir des rapports détaillés sur les défauts constatés. Ses algorithmes avancés de pré-traitement d'image, de détection et de correction des défauts, et ses fonctionnalités d'automatisation en font un choix exceptionnel pour l'inspection de masque et de plaquettes de haute précision.
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