Occasion NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT Q7 #293763618 à vendre en France

NANOMETRICS/BIO-RAD/ACCENT Q7 est un équipement d'inspection de masque et de wafer qui utilise des technologies d'imagerie avancées pour fournir une précision et une répétabilité supérieures dans le processus d'inspection. Ce système est conçu pour répondre aux exigences d'inspection à grande vitesse des processus semi-conducteurs critiques. L'unité ACCENT Q7 Masque et Wafer Inspection offre des capacités d'imagerie supérieures qui comprennent 7x inspection plein champ, des capacités de balayage ponctuel jusqu'à 5µm, et une précision sans précédent 0.10000µm dans la reconnaissance des fonctionnalités. Cette machine utilise également une optique de pointe, des assemblages et une technologie de caméra pour permettre une détection à haute résolution jusqu'à 0,01µm. L'outil intègre également un logiciel avancé d'analyse d'image pour fournir des résultats précis et reproductibles. Ce logiciel permet à l'actif d'identifier les défauts critiques, d'inspecter les motifs déformés ou diffusés par la lumière, et de distinguer différents degrés d'ombrage dans les masques et les surfaces de plaquettes. Le logiciel offre également un large éventail de fonctionnalités, telles que la comparaison de données de masque, le traitement par lots, et la déclaration. Cela permet aux utilisateurs d'évaluer et de corriger rapidement les processus de fabrication, ce qui augmente la qualité des produits et réduit les coûts. BIO-RAD Q7 Mask & Wafer Inspection offre également des composants matériels et logiciels dédiés qui sont synchronisés pour fournir une détection continue de haute précision et des résultats fiables. Il est équipé d'un étage de balayage air-float de pointe et de capacités de focalisation rapide qui sont alimentés par le logiciel Computer-Aid Design (CAO). Cela permet au modèle de fournir des résultats de balayage plus rapides et un meilleur débit. En outre, l'équipement dispose d'éclairage haute gamme dynamique (HDR) pour une luminosité et même un éclairage qui peut facilement identifier même les moindres défauts dans les plaquettes et les masques. Le système NANOMETRICS Q7 Masque et Wafer Inspection peut être intégré à un spectromètre pour permettre l'imagerie sélective en longueur d'onde, ce qui augmente encore sa précision et sa résolution de détection. Globalement, l'unité Q7 Mask & Wafer Inspection est une machine très avancée qui fournit une précision et une fiabilité supérieures dans le processus d'inspection. Ses caractéristiques en font un choix idéal pour les fabricants qui exigent une qualité sans compromis dans leurs processus de production.