Occasion NANOMETRICS LYNX #9212673 à vendre en France

ID: 9212673
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2011
Critical dimension measurement system, 12" Nano OCD Loading configuration: (4) Load ports EFEM Metro unit Power rating: 200 VAC~240 VAC, Single phase 2011 vintage.
NANOMETRICS LYNX est un chef de file reconnu dans le domaine des essais de plaquettes et de la métrologie. Il intègre une technologie de mesure de pointe pour effectuer des essais au niveau des plaquettes et des tâches de métrologie avec une vitesse et une précision sans précédent. L'équipement fournit une métrologie en temps réel, à grande vitesse, non invasive et de haute précision sur une variété de types de matériaux de plaquettes, principalement des plaquettes de silicium et de silicium/germanium (SiGe). Le système LYNX est conçu pour travailler en étroite collaboration avec le matériel de lithographie, par exemple en contrôlant le stepper et d'autres équipements de processus connexes, améliorant l'uniformité de taille des wafers sur l'ensemble du lot dans les conceptions de semi-conducteurs de grande puissance. Grâce à ses capacités d'imagerie haute résolution et haute vitesse, l'unité peut fournir des mesures rapides et précises des caractéristiques lithographiques formées sur la surface d'une plaquette à la fois haut et bas grossissement. En outre, la machine comprend un moteur de mesure avancé qui est capable d'opérations automatisées de reconnaissance de motifs. Il utilise des algorithmes hautement optimisés pour identifier les caractéristiques clés sur la plaquette et créer automatiquement de vraies mesures de position. Ce processus permet à l'outil de fournir des mesures de précision de placement de filière au niveau de la plaquette avec une précision microseconde. L'actif intègre également une puissante plate-forme de contrôle, qui permet aux utilisateurs de configurer et modifier facilement les paramètres de configuration en fonction des préférences des utilisateurs. Il stocke les exigences personnalisées, permettant au modèle d'être rapidement et facilement configuré pour les projets de métrologie les plus exigeants. Le matériel NANOMETRICS LYNX se compose d'un équipement d'imagerie haute vitesse et haute résolution, d'un système d'alignement de précision pour calibrer les composants de l'unité et d'une machine de commande compatible pas à pas. Il est intégré à une suite logicielle qui offre une large gamme de capacités de mesure, telles que la largeur de ligne, la hauteur des fonctionnalités et l'inclinaison, ainsi que la notation des défauts. Le logiciel fournit également des fonctions puissantes pour la segmentation des images, l'identification et l'étalonnage automatique des fixations, et le support pour plusieurs langages. En outre, le logiciel libère tout le potentiel de l'outil en fournissant des outils d'optimisation avancés pour améliorer automatiquement les performances du détecteur et minimiser le bruit provenant de l'environnement. L'actif est construit avec une conception modulaire, permettant aux utilisateurs de configurer le modèle avec des composants supplémentaires. Cette évolutivité permet à l'équipement de fournir des mesures précises et répétables pour une variété de tailles et de caractéristiques de plaquettes. Dans l'ensemble, le système LYNX est un outil de métrologie de pointe de l'industrie qui fournit des mesures de haute qualité avec une vitesse et une précision sans précédent, tout en intégrant de manière transparente avec l'équipement de lithographie pour les mesures de précision de placement de la matrice de niveau wafer.
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