Occasion RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu #9223287 à vendre en France
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ID: 9223287
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
Thin film thickness metrology system, 8"
System type: SMIF
Cu Measurement
Illumination (Diode pumped ultra-fast laser):
Wave length: 800 nm, Output 1000 W
Wave length: 400 nm, Output 250 W
Plus band: 100 x 10^-15 sec
Laser incident angle: 40° Fixed
Measurement spot size:
Wave length 400 nm: 7 x 10 μm
Wave length 800 nm: 14 x 20 μm
Measurable pattern size: ≦50 μm
Measurement film:
Single layer metal film
Multi layer metal film
Measurement module:
Calibration W sample wafer
Delay stage
Microscope
ULPA Filter
Wafer positioning
X-Y Wafer stage
Full auto flat / Notch finder
Diode laser (670 nm, Max output: 3 mW)
Controller:
PC: IBM Compatible
OS: IBM OS/2 Warp (Version 3)
Keyboard
LCD, 15"
Wafer transfer module:
Robot module
Wafer handling robot
Cassette interface
Chiller module:
Cooling water flow: 5 L/min
Capacity: 5 L DI Water
Water temperature: 25°C±1°C
Supply water temperature: 25℃±5°C
2002 vintage.
RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu est un équipement d'essai de plaquettes et de métrologie conçu pour fournir des mesures dimensionnelles, optiques et électriques pour assurer la qualité des plaquettes. Ce système utilise un étage d'interféromètre laser innovant pour fournir des mesures rapides, précises et répétables. La répétabilité des mesures fournies par l'unité est inférieure à 1 μ m dans les directions X et Y. La machine dispose d'une suite complète de logiciels, y compris le logiciel de balayage de faisceau d'électrons, ainsi que l'analyse des processus et des défauts. Il offre également un ensemble de comparaisons sous-cutanées riche en fonctionnalités qui permet de comparer les mesures topographiques, électriques et de niveau de caractéristiques sur plusieurs substrats. Le contrôle du processus fourni par l'outil garantit que les dimensions critiques restent uniformes et conformes aux spécifications souhaitées. L'actif peut mesurer des paramètres tels que l'épaisseur, la résistance de contact électrique, la finition de surface et les caractéristiques du processus. Il dispose également d'une variété d'outils de métrologie tels qu'un modèle d'inspection des lentilles défocales, un microscope à lumière et un équipement de mesure de tension. Le système a également une fonction de focalisation automatique précise qui élimine le besoin de focalisation manuelle du microscope. L'unité 200X-Cu est également équipée d'une machine avancée de contrôle de la matrice de haute précision, qui permet des mesures de comparaison de la matrice à la matrice précises et reproductibles. Il offre également un outil de mesure dimensionnelle de haute précision et un atout de mesure d'impédance de haute précision. En plus de ses outils complets de métrologie, le modèle fournit également un environnement matériel/logiciel configurable pour assurer un débit maximal et la collecte de données exactitude. En outre, l'équipement est équipé d'une interface utilisateur intuitive à écran tactile qui permet à l'utilisateur de passer rapidement et facilement entre différents modes de mesure. Le riche interféromètre RUDOLPH METAPULSE 200XCU est un excellent choix pour les tests de plaquettes et la métrologie. Avec son ensemble complet d'outils logiciels et matériels et son interface utilisateur intuitive, le système assure des mesures rapides, précises et reproductibles avec une précision inégalée. Cette unité est un ajout inestimable à toute installation de fabrication de semi-conducteurs et de salle blanche.
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