Occasion SSM 470i #9157376 à vendre en France

SSM 470i Wafer Testing and Metrology Equipment est un système complet conçu pour fournir des mesures répétables de haute précision des semi-conducteurs et des matériaux connexes. Il est composé de trois composants principaux : un dispositif de contrôle optique, un gabarit de test et une unité intégrée d'acquisition de données. Le dispositif d'inspection optique utilise une variété de microscopes et de lentilles de grossissement pour identifier les défauts et analyser les caractéristiques fines à la surface d'une plaquette telles que les largeurs de ligne, la profondeur de gravure, la contrainte de surface, et d'autres. Ceci se fait en enregistrant des images d'une zone échantillonnée à partir de la plaquette, puis en appliquant des algorithmes logiciels pour classifier et quantifier avec précision les caractéristiques. Le gabarit de test est conçu pour localiser précisément la plaquette d'échantillon sur le dispositif de contrôle optique et fournit des capacités de chauffage/refroidissement intégrées pour obtenir des conditions d'imagerie optimales. A l'aide de moteurs pas à pas et de micro-positionneurs, le gabarit est également capable d'assurer l'alignement exact de la plaquette d'échantillon par rapport au microscope. La machine d'acquisition intégrée de données est chargée de capturer et de stocker les données acquises, qui sont finalement utilisées pour les rapports de métrologie générés par l'outil. L'actif d'acquisition de données comprend également des outils logiciels intégrés pour définir les paramètres, contrôler le modèle et analyser les données acquises. Pris ensemble, le dispositif d'inspection optique, le gabarit d'essai et l'équipement intégré d'acquisition de données de 470i Wafer Testing and Metrology System en font une unité puissante et fiable pour la détection des défauts, l'inspection des plaquettes et l'analyse de la métrologie. Grâce à sa grande précision et sa répétabilité, la machine peut produire des mesures exactes et cohérentes qui peuvent être utilisées pour des processus critiques en aval tels que l'optimisation des paramètres de processus ou l'analyse de rendement.