Occasion TOHO FLX-2320-S #9229782 à vendre en France

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ID: 9229782
Film stress temperature measurement system Laser scanning: Measures stress on reflecting films Statistical Process Control (SPC) Elasticity and linear expansion Water diffusion coefficient in dielectric films Linear regression and stress-temperature / Stress-time gradients Thin film stress with very low measurement noise Observation & quantitative evaluation of stress relaxation Oxide densification Thin film phase transformations and annealing Power on.
TOHO FLX-2320-S est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes qui fournit des mesures très précises des plaquettes et substrats semi-conducteurs. Ce système est capable d'effectuer une variété de tests, y compris la métrologie, la cartographie des contraintes des plaquettes, la surveillance des défauts, les mesures de résistance électrique et le tri des défauts. Il dispose d'un étage XYZ automatisé qui permet un alignement et un positionnement précis des plaquettes, et son unité optique d'imagerie de haute précision permet la capture d'images jusqu'à huit bits à résolution 2K. TOHO FLX-2320S est équipé de deux canaux de vision pour l'inspection simultanée de la surface et du bord d'une plaquette. Chacun de ces canaux a une plage de zoom réglable de 0.5x à 100x, permettant une imagerie très détaillée de la face avant et arrière de la plaquette. En outre, la machine comprend une suite complète de logiciels de contrôle et d'analyse, qui permet à l'utilisateur d'analyser et d'imiter tous les défauts et caractéristiques de motif jusqu'au niveau 6um. Cette suite logicielle est équipée de puissantes capacités de traitement d'image qui permettent une analyse plus poussée des images défectueuses. En outre, l'outil est livré avec une gamme de cartes d'acquisition et de traitement de données haute performance qui permettent de mesurer rapidement et avec précision un large éventail de paramètres de wafer. Dans l'ensemble, FLX 2320-S est un atout fiable et précis en matière d'essais de plaquettes et de métrologie pour l'industrie des semi-conducteurs. Ses capacités d'imagerie et de contrôle très précises en font un outil efficace pour l'analyse et le tri des défauts, ainsi que pour mesurer les paramètres critiques des plaquettes. De plus, sa conception robuste assure un fonctionnement fiable même dans des environnements de production exigeants. L'inclusion de logiciels d'analyse puissants permet en outre à l'utilisateur de tirer des enseignements significatifs des données recueillies, ce qui permet une meilleure optimisation des processus de production.
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