Occasion AKRION UP-V2 HL 2000 #70444 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 70444
Style Vintage: 2000
Wet bench etcher, 5"
4 tanks
Set up to etch Chrome and gold with a surfactant tank
88” D x 73” W x 100” H
208V, 45A, 3 phase
Cassette immersion etch
Linear front rail robotic handler
Never installed
2000 vintage.
AKRION UP-V2 HL 2000 est une solution de traitement des plaquettes de haute précision d'AKRION conçue pour répondre aux besoins de l'industrie des semi-conducteurs. Il offre des performances supérieures en termes de précision, de précision et de répétabilité dans les processus de gravure chimique humide pour les nœuds de processus de haute performance. UP-V2 Station humide HL 2000 dispose d'une plate-forme robotique modulaire, livraison chimique humide intégrée, dépôt chimique en phase vapeur à basse pression, cuisson à haute capacité et alignement des caractéristiques. Le HL2000 dispose d'une plate-forme robotique modulaire de pointe, conçue pour la flexibilité, la vitesse et la précision. Cette plateforme robotique permet à l'utilisateur de reprogrammer rapidement la station pour différents outils, tâches et recettes de processus. Le système de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression, permet à l'utilisateur de produire des films minces uniformes avec une large gamme d'options de chimie de gravure. De plus, le système intégré de livraison de produits chimiques humides de la station fournit des produits chimiques de gravure précis et fiables directement au substrat. AKRION UP-V2 HL 2000 dispose également d'un système de cuisson à haute capacité capable d'accueillir des plaquettes pouvant atteindre 12 pouces et 400 mm de substrats pouvant atteindre 700 mm. En outre, la station est équipée de systèmes d'alignement de fonctionnalités qui peuvent mesurer, aligner et stocker les données de fonctionnalités avec précision en aussi peu que 3 secondes. Cela permet des mesures de caractéristiques de haute précision et une répétabilité améliorée tout au long du processus. UP-V2 HL 2000 offre des performances et une répétabilité supérieures pour les processus de gravure, même dans les flux de processus complexes. Il est conçu pour répondre aux besoins des processus les plus exigeants, y compris la gravure à haut rapport d'aspect, la gravure anisotrope à haute résolution et la gravure à haute température. Le HL2000 est une solution idéale pour la production de dispositifs semi-conducteurs de pointe, permettant des performances supérieures et un contrôle des processus.
Il n'y a pas encore de critiques