Occasion DNS / DAINIPPON FC-3100 #78944 à vendre en France

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ID: 78944
Wet station, 12" Cassette Interface: (2) 12" FOUP 4-Tank System: Tank #1: SPM Tank #2: SPM Tank #3: ONB Tank #4: HF CSB1 = NH4OH CSB2 = H2O2 CSB3 = SPARE CSB4 = HF CSB5 = HF Diagram 5L272998-FL273004 LUFRAN Model 144-6UU6-R6 – DI Water Heater Chemicals Used: Hydrofluoric Acid AQUEOUS, IPA, Hydrogen Peroxide, Ammonium Hydroxide, Sulfuric Acid, Carbon Dioxide, N2 Electrical Requirements: V 208, 3-Phase, 3-Wire, 50 / 60 Hz 2007 vintage.
La station humide DNS/DAINIPPON FC-3100 est une plate-forme de traitement automatisé haute performance et économique pour la fabrication de semi-conducteurs. L'unité a été conçue avec des systèmes avancés d'automatisation et de contrôle des processus afin de réduire l'intervention, de minimiser la variabilité et d'augmenter le rendement tout au long d'un processus de fabrication d'IC. Le DNS FC3100 consiste en une capacité de traitement en station humide à deux chambres. La première chambre est un module de procédé humide, qui facilite l'amorçage, la gravure, le rinçage et le nettoyage des plaquettes. La chambre de processus est contrôlée par un système sophistiqué et avancé de contrôle des processus et offre un buffet de méthodes efficaces et sans risque de traitement des plaquettes. Cela comprend le mélange des recettes, le réglage de la température et de la pression, le contrôle du débit et du niveau de liquide dans la chambre, et la surveillance des conditions actuelles. La chambre dispose également d'une mesure de pression précise, d'un contrôle automatisé des processus et d'un trieur de plaquettes embarqué. La deuxième chambre de DAINIPPON FC 3100 est le module de séchage, qui a lieu après l'achèvement du module de procédé humide. Cette chambre utilise une combinaison de chaleur, de dépôt chimique en phase vapeur et de pulvérisation à courant continu (DC) pour sécher les plaquettes et assure l'élimination optimale des résidus liquides en excès. Cela aide également à éliminer les distorsions causées par l'incohérence dans le processus d'élimination des résidus. Une fois les plaquettes séchées, un trieur trie automatiquement les plaquettes et les aligne avant de les envoyer à leur processus suivant. En outre, FC3100 station humide dispose également d'un moniteur de défaut actif, qui affiche les conditions actuelles dans la chambre de traitement et aide à ajuster les paramètres liés à l'état actuel du procédé. De plus, la rétroaction en temps réel et les connaissances sur les processus contribuent à garantir que les meilleurs résultats et l'efficacité sont continuellement atteints. Grâce à sa conception efficace, à ses systèmes intégrés d'automatisation et de contrôle des processus, FC-3100 est une ressource essentielle pour ceux qui recherchent une manutention et un contrôle des processus à haute performance et à coût élevé de leurs plaquettes.
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