Occasion DNS / DAINIPPON FC-3100 #9033293 à vendre en France

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ID: 9033293
Wet station, 12" Operating system: Windows Bath configuration: LD/ULD-HS-HQDR-SC1-HQDR-HF-QDR-LPD-LPD Load / Unload port: (2) Common Mecha: Motor: Servo motor Robot Chuck: Coating H2SO4 Bath: Material: Quartz Heater Filter: 30 nm Use chemical: H2SO4 + H2O2 Wafer guide: Quartz HQDR Bath: Material: Quartz Use chemical: DIW Wafer guide: Quartz SC1 Bath: Material: Quartz Heater Filter: 30nm Use chemical: NH4OH + H2O2 Wafer guide: Quartz HQDR Bath: Material: Quartz Use chemical: DIW Wafer guide: Quartz HF Bath: Material: PEEK Heater Filter: 30nm Use chemical: HF Wafer guide: PEEK QDR Bath: Material: TEFRON Use chemical: DIW Wafer guide: PEEK LPD: Material: TEFRON Heater Use chemical: DIW + 1PA + HF Wafer guide: PEEK 2007 vintage.
DNS/DAINIPPON FC-3100 est une station humide utilisée en lithographie et gravure de semi-conducteurs. Il s'agit d'un équipement contenant un stepper et un scanner à ultra haute résolution combinés qui dispose d'un contrôleur avancé de style CCD qui est utilisé pour la gravure de puces semi-conductrices. Sa précision est maintenue par la combinaison d'un étage X-Y et d'un axe Z à long temps. DNS FC3100 dispose d'un système dynamique à lentilles multiples qui fournit la précision nécessaire pour créer des micropuces complexes. Chacune des trois optiques est programmée pour fournir un plan de focalisation distinct. L'unité optique est alors couplée à un étage de précision qui permet d'affiner les différents paramètres de la machine. L'étape de balayage utilise un étage X-Y avec un axe Z à long temps pour maintenir une précision globale jusqu'à 1 µm. DAINIPPON FC 3100 dispose d'un outil automatisé de chargement de substrat pour charger et décharger un substrat sur la zone d'exploitation. L'actif de chargement du substrat est équipé de capteurs pour surveiller le placement de la plaquette. Les capteurs fournissent des alarmes lors du chargement et du déchargement pour alerter l'opérateur de tout désalignement ou écart par rapport aux paramètres spécifiés. Un modèle de contrôle optique est intégré à FC-3100 pour détecter les défauts sur le substrat. Cet équipement est équipé de lentilles de haute précision et d'un logiciel de traitement d'image permettant d'identifier les défauts avant de retirer le substrat de la zone d'exploitation. Cette détection de défauts est alors combinée à un système matériel automatisé qui inspecte et sépare les plaquettes défectueuses de la zone d'exploitation. DAINIPPON FC-3100 dispose également d'une unité de contrôle environnemental pour maintenir la température de fonctionnement. Cette machine assure un contrôle précis de la température des compartiments optiques de l'étape et du scanner et assure l'optimisation de toutes les variables pour le fonctionnement. Enfin, le DNS FC 3100 est équipé de dispositifs de sécurité tels qu'un contrôleur de jogging portatif. Ce contrôleur de jog permet à l'opérateur de naviguer soigneusement sur la scène et de coordonner les systèmes optiques. De plus, un outil Stir-Vacuum à faible émission est attaché au DNS/DAINIPPON FC 3100 pour s'assurer que l'huile, la poussière et la contamination sont contrôlées conformément aux spécifications du processus. En conclusion, FC 3100 station humide est un atout très sophistiqué et avancé conçu pour fournir un traitement très précis des puces semi-conductrices. Sa combinaison de systèmes optiques automatisés, d'étapes de précision, de contrôle environnemental, de manutention automatisée des plaquettes et de sécurité en fait un choix idéal pour les opérations de lithographie et de gravure.
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