Occasion DNS / DAINIPPON / SCREEN SU-3200 #293828146 à vendre en France
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ID: 293828146
Taille de la plaquette: 3"
Style Vintage: 2014
Wafer cleaning system, 3"
(8) Chambers
(4) Load port
Chemical: DHF, NH4OH ,H2O2 ,IPA ,03
Overhead Transport System (OHT)
SINFONIA TECHNOLOGY SELOP12F25-S7DB033F
Double robot arms
Process chamber unit:
Tower-1 : MPC-2,3
Tower-2 : MPC-4,5,6
Tower-3 : MPC-7,8,9
Chemical Cabinet:
SC-1
DHF
O3
CO2
CDA N2
DIW
PCW
FOUP Load port:
(4) Load port
FOUP Type: No N2 Purge
SINFONIA TECH NOLOGY
SELOP12F25-S7DB033F
30D65K-C212 Servo pack
Double robot arms
Material: Ceramic
KAWASAKI
3NT 420B-B029
NT4203452
XU-ACT153L-H01
YASUKAWA ELECTRIC CORP
30D65K-C212 Servo pack
Material: Ceramic
KAWASAKI
3SD940S-A006
SD9400150
E FLOW
e Flow SD90B-R11-F-VB
MPC chamber: 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9
Scan nozzle - 1:
Nozzle - 1: DHF (LFC), DIW(LFC)
Suck back drain
Nozzle - 2: O3 (MN), CO2W(MN)
Suck back drain
Nozzle - 3: IPA
Suck back drain
1 Upper nozzle N2 Purge
1 Lower nozzle N2 Purge
1 and 2 Nozzle rinse
Scan nozzle - 2:
Nozzle - 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Suck back drain
Nano spray 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Nano spray N2
Suck back drain
2 Upper nozzle N2 Purge
2 Lower nozzle N2 Purge
Back side nozzle:
Nozzle chemical dispense: DHF, SC-1, O3 ,CO2
Suck back Drain
Dispense
Fixed nozzle:
Nozzle rinse
Chuck pin rinse
Spin base rinse
Fixed cup
Exhaust duct rinse
Shutter N2 Blow
Chamber wall rinse
Shutter drive: Air cylinder
Chemical cabinet (SC-1):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-20MA
Pump damper: Pillar / A20S013 / 14722-3
Temp controller: DNS Special
Heating exchange: DNS Special
Temp range: 20 ~ 80°C
(4) Flow meter
(2) Houshing filter
Chemical cabinet (DHF):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-40MA
Pump damper: A40S018 / 14610-3
(2) Houshing filter
(4) Flow meter
Temp controller: KOMATSU
Heating exchange: KOMATSU
Temp range: 20 ~ 30°C
O3 Cabinet (LIQUOZON):
ASTeX GmbH PN: 14-0038-P00AA1007
DIO3 Outlet pressure: 14 - 36 psi (1.0 ~ 2.5 bar)
O2 Inlet pressure: 65 - 110 psi (4.5 ~ 7.6 bar)
CO2 Inlet pressure: 73 - 36 psi (5.0 ~ 7.6 bar)
UPW Inlet pressure: 48 - 73 psi (3.3 ~ 5.0 bar)
CDA Inlet pressure: 75 - 119 psi (5.2 ~ 8.2 bar)
Main cooling water pressure: 29 psi (2.0 bar)
Max cool water press: 73 psi (5.0 bar)
Missing parts:
Spin base: Material, Spin motor, Revolution, Acceleration, Revolution accuracy
Chuck: Chuck drive, Material, Wafer detection
Main H/D
Spin base (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC board assy (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC flow meter switch (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
CR ROBOT
INDEX ROBOT Servo drive
MPC - 2 (Chemical tray)
Power supply: Phase 3, 208V, 39kVA, 108A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
UPS Power supply: Phase 3, 208V, 20VA, 56A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
Power supply (4 - wire): 3/PE-200~230V ±10% 14A 50/60Hz
2014 vintage.
DNS/DAINIPPON/SCREEN SU-3200 est une station humide utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour le nettoyage et le séchage des substrats pendant le processus de fabrication. Ce matériel sophistiqué joue un rôle essentiel pour assurer la propreté et la qualité des substrats avant de passer à l'étape suivante de fabrication. DNS SU-3200 est conçu pour traiter les substrats avec précision et cohérence afin de répondre aux exigences strictes de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Au cœur de SCREEN SU 3200 se trouvent ses fonctions avancées de nettoyage et de séchage qui sont essentielles pour éliminer les contaminants et les résidus des substrats. La station humide comporte plusieurs chambres de traitement où les substrats sont soumis à une série de cycles de nettoyage et de rinçage utilisant diverses solutions chimiques et de l'eau désionisée. Ces processus de nettoyage sont soigneusement contrôlés pour atteindre des niveaux de propreté élevés et éviter tout défaut ou problème de fiabilité dans les dispositifs semi-conducteurs finaux. L'une des caractéristiques clés du DNS SU 3200 est sa flexibilité et son évolutivité pour tenir compte des différentes tailles et types de substrat couramment utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. L'équipement supporte différentes tailles de substrat allant des petites plaquettes aux grands panneaux, permettant aux fabricants de semi-conducteurs d'optimiser leurs processus de production et d'améliorer l'efficacité. En outre, SU 3200 peut être personnalisé avec des recettes de nettoyage spécifiques et des paramètres de processus pour répondre aux exigences uniques de différentes applications de semi-conducteurs. En termes de performance, le DNS/DAINIPPON/SCREEN SU 3200 se caractérise par ses capacités de débit élevées et ses processus de nettoyage efficaces. L'équipement est conçu pour traiter un grand nombre de substrats en un seul lot de traitement, ce qui maximise la productivité et réduit les temps de cycle de fabrication. Les modules de nettoyage et de séchage de SCREEN SU-3200 sont conçus pour fournir des résultats cohérents et reproductibles, garantissant la qualité et la fiabilité des substrats tout au long du processus de fabrication. DAINIPPON SU 3200 est équipé d'une interface conviviale et d'un système de contrôle intuitif, permettant aux opérateurs de configurer facilement les recettes de traitement, de surveiller l'état de l'équipement et d'analyser les données de performance du nettoyage. L'équipement est également équipé de capteurs avancés et de systèmes de surveillance pour assurer la sécurité et la fiabilité des processus de nettoyage. Cela permet aux fabricants de semi-conducteurs de maintenir des normes élevées de contrôle des procédés et de qualité dans leurs installations de production. En conclusion, la station humide DAINIPPON SU-3200 est une solution sophistiquée et fiable pour le nettoyage et le séchage des substrats dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec ses capacités de nettoyage avancées, ses performances de débit élevées et ses options de traitement flexibles, SU-3200 est un outil essentiel pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à atteindre des niveaux élevés de propreté et de qualité dans leurs processus de production. Son interface conviviale et ses fonctions de contrôle avancées en font un atout précieux pour optimiser l'efficacité de fabrication et la fiabilité des produits dans l'industrie des semi-conducteurs.
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