Occasion DNS / DAINIPPON SU-3000 #293809737 à vendre en France
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ID: 293809737
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
Wafer cleaner, 12"
(4) Chambers
(4) Chemical cabinets: NH4OH, BHF, IPA
(2) Handling systems
Overhead transport system
Indexer unit
(4) Load ports
YASUKAWA XU-ACT153L-B01 ID/R Unit
Transfer unit
YASUKAWA XU-RC615L-A12 CR Unit
Fan Filter unit (FFU):
Type: 2T-445950GGE-SWALY
Material: Fluoridation resin filter
Capacity: 99.995 <% / 0.1 μm
Range: 0~0.4 m/sec and 0~0.6 m/sec
Process chamber: (4) MPC Chambers
Shield plate:
Shield plate IPA Dispense: IPA
Shield plate DIW Dispense: CO2 Water
Shield plate nozzle drain: CO2 Water
Shield plate nozzle drain: IPA
Scan nozzle 1:
Chemical 2 Dispense: DHF
DIW Dispense: CO2 Water
Chemical 4 Dispense: Bulk HF
Port 20 DHF reclaim line valve open: DHF
Port 21 ACID drain line valve close: Acid
Port 20 N2 Purge
Chemical 2 Nozzle drain: DHF
DIW and chemical 4 nozzle drain: CO2 Water and bulk HF
Scan nozzle 2:
DIW Dispense: CO2 Water
Nano spray: N2
Nano spray DIW Dispense: CO2 Water
Nano spray chemical 3 dispense: SC-1
Nano nozzle 2 chemical 3 dispense: SC-1
Nano spray composite: N2 and CO2 Water
Nano spray composite: N2 and SC-1
Scan nozzle 2 chemical 3 nozzle drain: SC-1
Backside nozzle:
Chemical 2 dispense: DHF
Chemical 3 dispense: SC-1
DIW Dispense: CO2 Water
Backside nozzle 5 Chemical 4 Dispense: Bulk HF
Backside umbrella nozzle dispense: CO2 Water
Backside nozzle pre dispense
Backside nozzle drain
Fixed nozzle:
Chuck rinse nozzle dispense: CO2 Water
Spin base rinse nozzle dispense: CO2 Water
Shield plate surface rinse nozzle Dispense: CO2 Water
Fixed nozzle dispense: CO2 Water
Spin base:
Material: PCTFE
Spin motor: AC Servo motor
Maximum revolution: 3000 RPM
Maximum acceleration: 1000 RPM/sec
Revolution accuracy: ±3 RPM (at 3000 RPM)
Chuck:
Chuck drive: Pulse motor
Material: PCTFE, ETFE
Wafer detection: Detection by chuck pins
Shield plate:
Material: HT-PVC
Revolution drive: AC Servo motor
Maximum revolution: 3000 RPM
Maximum acceleration: 1000 RPM/sec
Revolution accuracy: ±3 rpm (at 3000 RPM)
Up / Down shift: AC Servo motor
Minimum distance to the wafer surface: 0.3 mm
Splash guard:
Chemical collection structure
Material: PTFE
Up / Down shift: AC Servo motor
Shutter:
Drive: Air cylinder
(2) Chemical cabinets
Temperature control of low temperature
Chemical used: HF, NH4OH, IPA
Chemical mixing ratio: Premix
Range of temperature control: 20°C~35°C
Chemical filter: Chemlock housing, 0.1 μm
Circulation pump: Pillar
KOMATSU NES-2123-7 Circulator
KOMATSU GRS-612 Temperature controller
E-Flow:
Module: SD16L-24S W
HORIBA OE-960CE Resistivity meter
Resistivity sensor: ESD-001C-T
Sensor cable: CK-10M
Sensor holder: EFA-30
Relay: MY2N-CR DC24V
Fire extinguisher controller: Auto pulse 542R
2008 vintage.
La station humide DNS/DAINIPPON SU-3000 est un équipement de gravure humide très efficace et fiable utilisé pour diverses applications dans l'industrie de l'ingénierie et de la fabrication. Il est équipé d'une chambre de gravure HF/HCl pulsée, de deux réservoirs de travail indépendants, d'un système de distribution de fluide haute pression et d'une palette intégrée pour améliorer le chargement et la manutention des matériaux. La conception unique de DNS SU-3000 offre aux utilisateurs une sécurité accrue, une meilleure qualité des résultats des gravures et une réduction significative des déchets. La chambre de gravure HF/HCl est conçue pour fournir un niveau précis de contrôle de gravure et de précision, tout en minimisant la quantité d'énergie nécessaire à son fonctionnement. L'intérieur de la chambre est revêtu d'un matériau céramique résistant à la corrosion pour protéger contre l'érosion et assurer un processus de gravure cohérent. La surface anaglyphe est construite avec une géométrie d'hydrographie et une parabole longitudinale, offrant aux utilisateurs des profondeurs de gravure uniformes et une finition de surface d'une extrême précision et précision. En plus de la chambre de gravure HF/HCl, DAINIPPON SU 3000 comprend deux cuves de travail indépendantes, chacune supportant des processus de gravure différents. En raison de la conception de chaque réservoir, les matériaux placés dans ceux-ci peuvent être facilement déplacés de l'un à l'autre, ce qui permet un échange rapide de méthodes et un mélange chimique. Chaque réservoir est équipé d'une pompe péristaltique et d'une machine à pression pour fournir des solutions HF/HCl, avec une pression maximale de 50 bar (725 psi). Le DNS SU 3000 comprend également un outil de palette intégré pour améliorer le chargement et la manutention des matériaux. La palette est conçue de façon ergonomique pour faciliter le chargement et le déchargement des matériaux de gravure. L'actif a été conçu pour réduire considérablement les temps d'arrêt et pour effectuer un nombre beaucoup plus élevé de processus en un laps de temps plus court qu'avec d'autres systèmes de gravure humide. Dans l'ensemble, SU-3000 station humide est un modèle de gravure haut de gamme qui convient bien à une variété d'applications. L'équipement offre une sécurité accrue, une meilleure qualité des résultats des gravures et une réduction significative des déchets. Il s'appuie sur des normes strictes de contrôle de la qualité et répond aux normes les plus élevées de fiabilité et de précision.
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