Occasion DNS / DAINIPPON SU-3100 #293627839 à vendre en France
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ID: 293627839
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Wafer cleaning system, 12"
(8) Chambers
(4) Load ports
Powerbox
Densimeter
E-Flow
DVR
Chemical supply: HF, H2SO4, H2O2
Nozzle:
Chemical (Spin 1-8)
Side rinse
E-Flow (Spin 1-8 and front)
Nano spray
Rinse back rinse
UMC Controller
Index R IDA
(2) CR Stages
Spin unit:
Left: 5, 6, 7, 8
Right: 1, 2, 3, 4
IR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
Arm Y-Axis servo-motor
OARM X, Y-Axis stepping-motor
CR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
ARM Y,Z AC Servo-motor
Missing:
Hard Disk Drive (HDD)
Fire suppression
DI Resistivity sensor: AS
Flow meter sensor: RK
Power supply: 220 VAC, 60 Hz, 3 Phase
Full Load: 32kVA, 88A, 60 Hz
3 Wires with GND/PE
Breaker rate: 110A
SCCR: 10kA
2007 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100 est une station de traitement humide qui utilise des technologies de gravure ionique réactive (RIE) et de polissage chimique-mécanique (CMP) pour créer des produits fabriqués à partir de matériaux semi-conducteurs. La station humide permet des procédés de gravure et de polissage précis et reproductibles afin d'obtenir des substrats de haute qualité avec une rugosité de surface minimale. La station humide se compose d'une chambre en acier inoxydable résistant chimiquement avec un équipement sous vide interne, une source d'ions, un élément de chauffage résistif, un porte-plaquettes mécaniques, et une gamme de gaz de procédé. La chambre est également équipée d'un certain nombre de prises d'accès pour la connexion à d'autres systèmes de vide et composants de processus. La chambre comporte également un verrou de charge pour transférer des plaquettes dans et hors de la chambre sans les exposer à la pression atmosphérique ambiante. La source d'ions est utilisée pour alimenter les gaz de procédé et créer un plasma de densité et de composition contrôlables. L'élément chauffant est utilisé pour contrôler la pression et la température pendant le processus de gravure, tandis que le porte-plaquettes mécaniques assure un maintien en place sûr des plaquettes tout au long du processus. La chambre comporte également des pompes à vide pour évacuer les gaz de procédé, ainsi qu'un orifice d'évent pour évacuer les sous-produits de la réaction de gravure. Afin de maintenir un environnement de travail sûr et propre, la station humide est également équipée d'un système de gommage d'air et d'une unité de distribution automatique d'azote. La machine de gommage d'air élimine les particules et autres contaminants de l'air entrant, tandis que l'outil de distribution d'azote maintient une atmosphère de processus uniforme à l'intérieur de la chambre. La station humide offre des capacités de gravure très précises et une surveillance avancée des processus, permettant la production de produits avec des niveaux extrêmement élevés de précision et de répétabilité. Il est capable de traiter différents types de matériaux tels que les métaux, les oxydes, les polymères et les composés. En outre, il est conçu avec une architecture modulaire et peut être facilement mis à niveau pour répondre aux besoins des clients.
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