Occasion DNS / DAINIPPON SU-3100 #9099733 à vendre en France

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ID: 9099733
Style Vintage: 2007
Wet station, 12" 25 Wafer FOUP LED Lamp Spin dry with N2 DSP/LAL15+ozone rinse Loadport & FA communication 4 Ports FOUP Transfer system FOUP Opener Opener twice operation Place pin: 4 Pins (Cu exclusive / Mix / Non Cu divided) Foup Wafer slip sensing Wafer counting & mapping system (8) Chambers Wafer transfer system Notch align system (Loader only) Ionizer (Alarm function) Spin unit Chemical supply unit Wafer process flow Spin unit: Chemical chamber 1~8 (DSP/LAL15/O3) N2 Dispenser NANO Spray dispenser Antistatic finish (Static electricity) wafer ground Spin chuck material by chemicals Wafer chucking edge grip : ≤2 mm FDC Compatible Spin speed range: 100 ~ 3000 RPM ± 10 RPM Wafer protection function Separate drain port Chemical return to chemical tank required, Control by recipe Directed chemical rinse drain required, control by recipe Spin chucking sensor SPIN ( increase and decrease) speed required, Control by recipe Chemical attack free spin base inside Wafer & Cup level hard interlock required up/down position hard sensor Chemical chamber 1~8 (DSP / LAL15 / O3 / DIW) Front / Back control Front & back all applications Suck back function Process chemical: DSP/LAL15+Ozone rinse Dispenser (Individual install) Dispenser 1: DSP (H2SO4+H2O2+HF+DIW) Dispenser 2: LAL15 Dispenser 3: Ozone + DIW Dispenser 4: N2 Dispenser 5: Nano spray Chemical flow rate: 0.5 ~ 3.0 LPM± 0.1LPM DIW Flow rate range: 0.5 ~ 3.0 LPM± 0.1LPM Ozone rinse DIW Rinse after chemical process times Wafer cleaning and rinsing required Wafer front and backside 2007 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100 est une station humide conçue pour l'amélioration et l'amélioration des procédés de fabrication des puces semi-conductrices. Il s'agit d'un équipement à commande informatique utilisé pour le polissage mécanique chimique (CMP), la planarisation mécanique chimique (CMP) et le traitement chimique par voie humide des plaquettes et des puces. Le système est capable d'effectuer un traitement chimique humide d'une manière hautement efficace et automatisée avec une intervention humaine minimale. L'unité dispose d'une bande transporteuse en wafer de pointe et d'une grande chambre avec plusieurs bras robotiques montés latéralement. Les bras robotisés sont utilisés pour contrôler avec précision les opérations chimiques de traitement par voie humide et de planarisation, ainsi que pour déplacer les plaquettes et puces semi-conductrices. La chambre principale de la machine est équipée de plusieurs capteurs, dont des capteurs de température, d'humidité et de pression. La chambre est également équipée de plusieurs postes de contrôle chimique et d'un outil de distribution piloté par ordinateur qui peut contrôler et délivrer avec précision les quantités correctes de liquides et de solvants pendant le processus humide. En plus de ses processus automatisés, DNS SU-3100 dispose également d'un atout intégré de mesure et d'analyse qui permet l'évaluation et le suivi des performances des plaquettes et des puces. Ce modèle comprend un microscope intégré, des arracheurs optiques et un logiciel intégré qui peut analyser les données détectées et générer un graphique précis des performances des plaquettes et des puces. La station humide comprend également un équipement d'imagerie numérique qui peut capturer des images des surfaces de la plaquette et de la puce pour une analyse plus approfondie. Ce système est très précis et peut mesurer la rugosité de surface des plaquettes et des puces. Enfin, l'unité comprend une machine avancée de contrôle des processus et un outil intégré d'enregistrement des données qui peut stocker les données et les traiter aux fins de déclaration et d'enquête. En conclusion, DAINIPPON SU 3100 est une station humide très avancée qui offre un contrôle de précision dans les processus chimiques humides et de planarisation. Son outil de mesure et d'analyse intégré et son modèle d'imagerie numérique offrent des données de performance et des capacités de capture d'images précises, tandis que son équipement intégré de contrôle des processus et son système d'enregistrement des données offrent à l'utilisateur une plateforme complète pour comprendre et analyser les données en vue d'une optimisation plus poussée.
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