Occasion KC TECH KCT-W300F #293757180 à vendre en France
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ID: 293757180
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
PR Stripper, 12"
Process flow: SPM / LAL / SC1
2008 vintage.
KC TECH KCT-W300F est une station humide de pointe conçue pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs qui nécessitent un nettoyage précis et une préparation de surface dans un environnement contrôlé. Cette station humide est soigneusement conçue pour répondre aux normes élevées de propreté et de fiabilité exigées par l'industrie des semi-conducteurs, ce qui en fait un outil indispensable pour les installations de fabrication de semi-conducteurs. Une des caractéristiques clés de KCT-W300F station humide est sa conception modulaire, qui permet une personnalisation facile et l'évolutivité pour répondre aux exigences spécifiques des différents processus de semi-conducteurs. La station humide est équipée de multiples modules de processus, y compris le nettoyage, le rinçage, le séchage et le traitement chimique, qui peuvent être configurés en diverses combinaisons pour accueillir un large éventail de séquences de processus. Le module de nettoyage de la station humide KC TECH KCT-W300F est conçu pour éliminer les contaminants et les résidus des substrats semi-conducteurs avec une grande efficacité et uniformité. Il est doté de technologies de nettoyage avancées, telles que le nettoyage à ultrasons, le nettoyage mégasonique et le nettoyage par pulvérisation, qui assurent l'élimination complète des particules et des films de la surface du substrat sans causer de dommages ou de défauts. Le module de rinçage de la station humide est essentiel pour assurer la propreté de la surface du substrat après le processus de nettoyage. Il est équipé de systèmes de recirculation d'eau de haute pureté et d'unités de filtration qui fournissent de l'eau de rinçage ultra-propre pour éliminer les impuretés et résidus restants de la surface du substrat, le laissant intact et prêt pour un traitement ultérieur. Le module de séchage de KCT-W300F station humide utilise des techniques avancées, telles que le soufflage d'air chaud, le rayonnement infrarouge et le séchage par spin, pour sécher rapidement et efficacement la surface du substrat sans laisser de filigrane ou de contaminants derrière. Ceci assure que le substrat est complètement sec et exempt de toute humidité avant de passer à l'étape suivante du procédé. En plus des modules de nettoyage, de rinçage et de séchage de base, KC TECH KCT-W300F station humide dispose également d'un module de traitement chimique qui permet la modification de surface et la fonctionnalisation du substrat par l'application de diverses solutions chimiques. Ce module est équipé de systèmes de dosage de précision et de bains à température contrôlée pour assurer des traitements chimiques précis et reproductibles pour différentes exigences de processus. KCT-W300F station humide est conçue avec une interface conviviale qui offre un accès facile à tous les paramètres de processus et les paramètres de contrôle. Il est équipé de systèmes de surveillance et de diagnostic avancés qui surveillent en permanence les conditions du processus et alertent l'utilisateur de toute déviation ou anomalie, assurant un fonctionnement cohérent et fiable. Globalement, la station humide KC TECH KCT-W300F est une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir un nettoyage et une préparation de surface de haute qualité et fiables pour leurs dispositifs semi-conducteurs avancés. Sa conception modulaire, ses technologies de nettoyage avancées et ses capacités précises de contrôle des processus en font un outil polyvalent et efficace pour un large éventail d'applications de traitement des semi-conducteurs.
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