Occasion OHSUNG LST Aqua regia / MO #9392184 à vendre en France
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OHSUNG LST Aqua regia/MO est une station humide produite par OHSUNG LST Corporation qui est conçue pour traiter des substrats de wafer. En utilisant des méthodes électrolytiques, la station humide nettoie et grave la surface de la plaquette pour la préparer au processus de production ultérieur. Cette station humide est particulièrement bien adaptée à la réalisation de dispositifs de stockage de mémoire du fait de sa capacité à traiter des plaquettes sans appliquer de masque, évitant ainsi la nécessité d'étapes de fabrication supplémentaires. La station humide est constituée de deux modules principaux, le premier module contenant une chambre de gravure acide et une section de traitement électrolytique. La chambre de gravure acide est utilisée pour nettoyer la surface de la plaquette puis graver le substrat en utilisant aqua regia, un mélange extrêmement fort d'acides chlorhydrique et nitrique. La section de traitement électrolytique est utilisée pour les traitements électrochimiques, tels que l'électrodéposition et la gravure électrochimique, sur la surface de la plaquette. Le deuxième module est un récipient de mélange qui contient la solution d'électrolyte et est utilisé pour contrôler les concentrations de différents produits chimiques dans la solution. Ce module comporte un régulateur de température précis qui assure le contrôle précis de la température, l'un des principaux paramètres du traitement électrolytique. La station humide utilise une source d'énergie de qualité industrielle pour alimenter les deux chambres, permettant le fonctionnement d'une large gamme de paramètres de processus. La station est exploitée à l'aide d'un système de contrôle qui permet à l'utilisateur de programmer une gamme de variables de processus, telles que la température, la tension et le courant. La station humide intègre également un ensemble complet de dispositifs de sécurité conçus pour protéger l'opérateur et l'environnement. Il s'agit notamment des systèmes d'arrêt de sécurité qui éteignent automatiquement le processus lorsque les limites sont dépassées et des hottes qui éliminent les émissions de vapeurs toxiques et corrosives. Aqua regia/MO est une station de traitement humide avancée conçue pour fournir des résultats supérieurs dans le traitement des substrats de plaquettes. Son contrôle précis de la température et de la tension, ses fonctions de sécurité complètes et son système avancé de contrôle des processus en font un choix idéal pour produire des dispositifs de stockage de mémoire.
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