Occasion RENA Wetbench #9049832 à vendre en France

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Fabricant
RENA
Modèle
Wetbench
ID: 9049832
Wet bench, 4" 6" TiW H202 31%.
Un banc humide RENA est un type de station humide conçu pour fournir un environnement propre et contrôlé pour le traitement des plaquettes semi-conductrices et d'autres processus connexes de fabrication de matériaux. Il est généralement utilisé pour les opérations de gravure humide et de nettoyage. Wet Bench se compose d'une série d'armoires fermées en acier inoxydable avec un environnement contrôlé. Ces armoires sont divisées en trois sections : la section de stockage, la section de traitement et la station de lavage. La section de stockage contient les produits chimiques, liquides et composants nécessaires à la gravure humide et au nettoyage. La section processus abrite l'équipement de traitement, comme les réservoirs chimiques, les pompes, les vannes et autres composants de ce type, ainsi que les systèmes de commande et de communication électriques nécessaires. La station de lavage sert d'évier pour le ruissellement de l'eau de la section de traitement, ainsi que d'endroit pour nettoyer et entreposer les composants traités. RENA Wet Bench est conçu pour créer un environnement aseptique où les produits chimiques du procédé sont séparés, tout en permettant à chaque étape de la gravure humide et du procédé de se produire de manière contrôlée et ordonnée. Cela permet également de s'assurer que le procédé est exempt de contamination. Les armoires contiennent également un certain nombre de dispositifs de sécurité, tels que des systèmes d'extinction d'incendie, des systèmes de confinement chimique et des soupapes d'arrêt d'urgence qui peuvent être activées en cas d'urgence. Wet Bench dispose généralement d'un certain nombre de composants automatisés, comme une interface informatique qui aide à l'automatisation et au suivi des processus, ainsi que des systèmes de surveillance qui contrôlent les paramètres du processus. En outre, il peut également comporter divers systèmes de filtration, tels que l'échange d'ions, l'ultrafiltration et l'osmose inverse, qui aident à s'assurer que toutes les chimies de processus restent pures et non contaminées. Ces systèmes de filtration ont permis aux bancs humides d'obtenir des résultats cohérents, avec des procédés reproductibles et précis. Dans l'ensemble, RENA Wet Bench est un équipement essentiel utilisé dans la fabrication et le traitement de plaquettes semi-conductrices et d'autres procédés connexes. Grâce à sa précision, à sa consistance et à ses caractéristiques de sécurité, il garantit que les composants, les matériaux et les produits chimiques restent purs, non contaminés et cohérents.
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