Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353547 à vendre en France
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ID: 9353547
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Wet bench, 12"
Process: RECA Rec-clean
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PVDF
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 70°C
Mixing ratio: HCL:H2O, 1:500 / 1:1000
Proportion 1: HF:H2O, 1:500 / 1:1000
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 2:3:130
Megasonic: SSDM 2800 W
Heater
YY5611203J Filter
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
(2) QDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: QUARTZ
Cold CIW: 40-60 l/min
HF/EG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: HF/EG
1:10: 65°C
1:50: 60°C
Cold CIW: 4
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-158-F1 Concentration monitor
BSG:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 60°C
Mixing ratio: HF/H2S04, 1:5 / 1:30
NSPH-55KML Pump
Chemical heater
QCCATX01 Filter, 0.1 µm
HORIBA CS-133 V Concentration monitor
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius est un équipement supérieur de station humide développé par TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON). Il est conçu pour optimiser la compatibilité technologique, l'automatisation, la flexibilité et le débit pour les fabricants de dispositifs semi-conducteurs. Le système de station humide TEL Expedius offre des techniques de traitement intégrées et entièrement automatisées à l'industrie des semi-conducteurs, ce qui en fait l'un des systèmes les plus avancés pour la gravure, le nettoyage et d'autres procédés connexes. L'unité est compatible avec les technologies de gravure, de bande et de dépôt standard TEL/TOKYO ELECTRON, en plus d'une gamme de technologies intégrées de gravure/bande et de dépôt/bande. La chambre dispose d'une capacité d'ultra-haute température et fournit un environnement uniforme pour les processus de gravure. En outre, la chambre a une conception cyclonique brevetée, qui permet à la machine de tirer, collecter et filtrer les particules et les débris générés lors des processus de fabrication. Le bras robotique est contrôlé par l'interface tactile et fournit une précision de position, une profondeur de gravure uniforme, et un environnement homogène qui garantit des caractéristiques de produit cohérentes. Le bras robotique peut être utilisé pour les processus de gravure humide et de nettoyage, y compris une gamme d'opérations de gravure/bande et de dépôt/bande. La station humide Expedius dispose également d'une interface dynamique qui communique avec les composants de production et facilite la surveillance des processus et l'enregistrement des données de production. Cela permet de suivre les processus d'assurance de la qualité et d'amélioration continue. En outre, l'interface dispose également de connecteurs pour connecter plusieurs stations de mouillage TEL/TOKYO ELECTRON Expedius entre elles pour augmenter le débit. Dans l'ensemble, TEL Expedius wet station tool est une solution avancée pour la gravure, le nettoyage et d'autres procédés connexes dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Avec ses caractéristiques inégalées telles que la compatibilité à haute température, la conception de chambres cycloniques, le bras robotique, l'interface dynamique et les capacités de débit accrues, TOKYO ELECTRON Expedius offre des performances et une efficacité de processus supérieures aux fabricants de dispositifs.
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