Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353551 à vendre en France
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ID: 9353551
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Wet bench, 12"
Process: SPMC PR Strip
Load / Unload module:
Transfer module:
Dryer SD2:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mega sonic: SSDM 2800 W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 35°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O
Mega sonic: SSDM 2800 W
IWAKI FW-40-T Pump
AIH-124QS CS Heater with WJ
Filter:TRCXATEB1K 0.02um
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
HQRD:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
SPTRVXATE4SM:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 110°C / 140°C
Mixing ratio: H2SO4:H2O 10:1
Cold DIW: 40~60L/min
Pump: NSPH-55KML
Heater: COOLNICS AIH-64QS
(2) Filters LDFHT1GPK16E72-K7 0.2 µm
HORIBA CS-150 Concentration monitor
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius est une station humide conçue pour le développement de processus et le prototypage de dispositifs. L'équipement est composé d'un système de balayage de plaquettes et d'une chambre de traitement monobloc, autonome dans un cadre modulaire PE II (enceinte de traitement). La station humide est conçue pour traiter jusqu'à 300 mm de diamètre (15 cm) de plaquettes pour une variété de procédés chimiques humides, tels que la bande de résiste, la gravure d'oxyde, les opérations de spin-rinçage-sec (SRD) et d'autres opérations essentielles de nettoyage. L'unité de balayage, actionnée par un affichage graphique convivial, permet un contrôle précis du processus sur la surface de la plaquette. L'appareil est configuré avec un microcontrôleur intégré pour contrôler le temps d'exposition, le nombre d'expositions et les débits de gaz ainsi que d'autres paramètres de numérisation. Un sécheur de type vortex est équipé en option pour le séchage des plaquettes après des opérations chimiques humides. La chambre de traitement des plaquettes comprend une chambre de traitement de type plaque parallèle double face de haute précision, maximisant les performances et la répétabilité des procédés. La construction en acier inoxydable de la chambre est légère et résistante à la corrosion. La chambre peut être équipée d'une machine à gaz intégrée, permettant des injections de composés volatils ou de matériaux résistants à la corrosion lors du traitement. L'outil est compatible avec une variété de produits chimiques tels que les acides, les bases, les solvants et les tensioactifs. La conception précise de la chambre de procédé permet des performances de dose et de gravure uniformes - critiques pour le traitement répétable des dispositifs. La chambre peut être facilement reconfigurée pour différentes applications clients avec différentes chimies. L'actif possède des dispositifs de sécurité intégrés, y compris des conteneurs auto-verrouillables, des détecteurs de gaz dangereux, des mesures de seuil à deux gaz et des portes de chambre de sécurité scellées qui empêchent l'introduction de gaz étranger dans l'environnement d'exploitation. De plus, ce modèle permet un contrôle précis du temps d'exposition et de l'uniformité. En outre, il est équipé d'un logiciel de surveillance qui permet l'enregistrement, le suivi et l'analyse des données de processus pour référence future. La station humide TEL Expedius est un équipement fiable, flexible et fiable conçu pour le développement de processus et le prototypage d'appareils. Avec son interface graphique intuitive et sa chambre de traitement bi-côté de haute précision, la station humide est idéale pour les applications nécessitant précision et répétabilité.
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