Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9376105 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
ID: 9376105
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Wet bench, 12" Process: MRCA Pre-clean Load / Unload module Transfer module Tank SD2 (Dryer) Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold DIW: 40-60 l/min M/S POU: Guide material: Quartz Process bath material: Quartz Temperature: 70°C Proportion: HCL: H2O, 1:500 / 1:1000 Mega sonic: SSDM 2800W Cold DIW: 40-60 l/min Hot DIW: 40-60 l/min Heater CEH-480 Concentration monitor O3 Water generator SC1 (M/S): Guide material: Quartz Process bath material: PTFE Temperature: 55°C Mixing ratio: NH3OH: H2O2:H2O, 2:3:100 Mega sonic: DM 4800W FF-20BT1 Pump CS Heater QCCZATM0IK Filter, 0.05 µm HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor QDR: Guide material: PCTFE Process bath material: Quartz Cold CIW: 40-60 L/Min DHF: Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Mixing ratio: DHF: H2O, 1:25 FF-20BT1 Pump COOLNICS Heater IHIG01M01K Filter, 0.2 µm CM-210-05 Concentration monitor 2006 vintage.
TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON Expedius est une station humide conçue pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Cette plate-forme est spécialement conçue pour la réalisation de procédés de gravure et de dépôt nécessitant des résultats précis et reproductibles tels que la pulvérisation, l'oxydation thermique, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et la gravure ionique réactive (RIE). La plate-forme est équipée d'un équipement de gravure et de dépôt in situ, permettant un contrôle précis des couches et des délais d'exécution plus rapides. Cette plate-forme est très fiable, avec des composants critiques soumis à des tests rigoureux, garantissant des performances de processus maximales et la fiabilité. La plate-forme TEL Expedius est conçue pour assurer un contrôle et une répétabilité maximum des processus. Dotée d'une grande matrice sous vide, la plate-forme assure une distribution précise des gaz pour des procédés tels que la pulvérisation, le CVD et le RIET. En outre, le système de gravure et de dépôt énergétique est équipé d'une unité d'injection de gaz unique, permettant aux utilisateurs de réaliser des processus de gravure et de dépôt très sophistiqués. Cette machine d'injection de gaz permet également aux utilisateurs de déposer sur le substrat des formes arbitraires du matériau désiré. Les avantages de l'utilisation de TOKYO ELECTRON Expedius sont une bonne adhérence des matériaux de départ pour des procédés complexes tels que la pulvérisation et l'hétéroépitaxie, ainsi qu'une excellente uniformité thermique pour CVD et RIET. L'outil est également équipé de composants de régulation de température avancés pour un contrôle précis de la température. De plus, les supports supérieurs de la plate-forme et le chauffage du substrat de type résistif assurent un chauffage reproductible et précis du substrat. La plateforme Expedius est hautement personnalisable, permettant aux utilisateurs de sélectionner une large gamme d'options d'actifs. La plateforme est conçue pour être modernisable, permettant aux utilisateurs de construire des systèmes plus sophistiqués au fur et à mesure de l'évolution de leurs besoins et de leurs processus. En outre, la plateforme est livrée avec un logiciel convivial qui permet aux utilisateurs de personnaliser les processus et de créer de nouvelles recettes rapidement et facilement. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON Expedius est une station humide avancée qui fournit une plate-forme polyvalente et fiable pour des processus de gravure et de dépôt sophistiqués. Sa grande matrice sous vide et son injecteur d'énergie offrent un excellent contrôle des processus, tandis que ses composants contrôlés par la température garantissent la répétabilité et la précision. La plate-forme est hautement personnalisable et évolutive, ce qui en fait un excellent choix pour ceux qui recherchent des capacités de gravure et de dépôt avancées.
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