Occasion TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z #9124710 à vendre en France

La station humide TEL/TOKYO ELECTRON UW-200Z est un équipement de nettoyage et de séchage de haute précision pour des pièces de substrats semi-conducteurs. Il offre des performances fiables et un fonctionnement efficace pour garantir des résultats uniformes, cohérents et esthétiques agréables. La station humide fournit une solution complète pour le dégraissage, la gravure et le séchage de différents types de matériaux de substrat. La station dispose d'un mince, 733 mm de profondeur, construction monobloc pour permettre une économie maximale d'espace à l'avant d'un laboratoire ou d'une ligne de production. TEL UW200Z a été conçu pour une efficacité et une cohérence optimales des processus, permettant des performances cohérentes avec une intervention minimale de l'opérateur. La station humide TOKYO ELECTRON UW 200 Z dispose d'une source d'alimentation alternative à double onde fiable pour une plus grande flexibilité du procédé. Il peut être utilisé pour les procédés de dégraissage, de gravure et de séchage avec d'autres fonctions sélectionnées par l'utilisateur, telles que le nettoyage à l'arrière sec, le verrouillage et le lavage de la plaque de champ (Fplate). L'alimentation en courant alternatif à double onde permet un contrôle précis de la température pour un séchage de surface plus régulier. L'ajout d'une fonction de chauffage des plaques permet de minimiser la perte de chaleur et d'assurer un contrôle précis de la température. TEL UW-200Z propose deux procédés de nettoyage personnalisables : le nettoyage à basse température et le nettoyage à haute température. Le nettoyage à basse température commence par une étape de dégraissage suivie d'un rinçage à froid et d'un rinçage à chaud. Ce processus réduit la quantité de produits chimiques et d'énergie nécessaire. Le procédé de nettoyage à haute température adopte une connexion arrière et comporte une étape de dégraissage acide suivie d'un rinçage à chaud, et le procédé de gravure est effectué à l'eau chaude. Pour le séchage, TEL UW 200 Z dispose d'un plan de séchage de confiance qui maximise la vitesse de séchage et minimise l'adhérence des matières étrangères. Le plan de séchage de confiance fonctionne en utilisant le flux d'air généré pendant le processus de nettoyage et en combinant l'air avec le chauffage. L'air chauffé augmente l'efficacité du processus de séchage et minimise le risque de défauts. UW-200Z est également équipé d'un système de couteau à air en option pour séparer les particules et le liquide du substrat. Le couteau à air fonctionne en utilisant un flux d'air haute pression pour séparer le liquide et les particules, permettant au substrat de sécher plus rapidement et avec une plus grande efficacité. Dans l'ensemble, la station humide TEL/TOKYO ELECTRON UW200Z est une machine de nettoyage et de séchage avancée et fiable conçue pour répondre à la demande croissante de composants de qualité dans l'industrie des semi-conducteurs. Il offre une flexibilité de procédé, un contrôle précis de la température, deux procédés de nettoyage personnalisables et un plan de séchage de confiance efficace pour un séchage de surface exceptionnel.