Occasion TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9267289 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z
ID: 9267289
Wet station.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z est une station humide qui convient à une variété de procédés liés aux semi-conducteurs tels que le nettoyage des plaquettes, la gravure et le dépôt de couches minces. Il est compatible avec les types de procédés humides et secs, permettant son utilisation dans des applications allant de l'isolation de tranchées peu profondes (STI) au polissage chimique-mécanique (CMP). TEL UW300Z dispose d'un système de contrôle automatisé des outils qui permet la planification automatisée des outils et des processus, ainsi que des chimiographies uniformes sur plusieurs outils. Le boîtier TOKYO ELECTRON UW 300Z est en acier inoxydable robuste, et la chambre de procédé est un design peu profilé qui peut accueillir des plaquettes jusqu'à 300mm de diamètre. Il dispose également d'un écran tactile facile à utiliser, de style intuitif, situé à l'avant de l'appareil, ce qui facilite le fonctionnement des processus. TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z dispose également de dispositifs de sécurité intégrés, tels qu'un rideau de lumière de sécurité sur le boîtier qui empêche les opérateurs d'accéder à la chambre de processus afin de les protéger contre les produits chimiques ou les matières dangereuses. En termes de chimie de procédé, UW 300Z peut soutenir divers procédés de gravure humide tels que HF (acide fluorhydrique), NaOH (hydroxyde de sodium) et KOH (hydroxyde de potassium). Le procédé de gravure humide peut être utilisé pour nettoyer la surface d'une plaquette et pour modeler des nanostructures sur sa surface. De plus, TEL UW 300Z peut également être utilisé pour déposer des films minces sur la surface d'une plaquette, tels que des films d'aluminium utilisés dans les cellules solaires. Pour la sécurité des opérateurs, TEL/TOKYO ELECTRON UW 300Z est équipé d'un verrouillage à porte ouverte qui empêche les opérateurs d'entrer dans la chambre de traitement pendant que la plaquette est dans le laboratoire. De plus, TOKYO ELECTRON UW300Z dispose également d'un capot d'échappement pour s'assurer que l'air contaminé est correctement expulsé de l'environnement du laboratoire. En outre, UW-300Z comprend également un système de surveillance des particules embarqué qui surveille en permanence le niveau des particules dans la chambre de traitement, permettant une surveillance des processus en temps réel. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON UW 300 Z est une solution de station humide idéale pour les applications semi-conductrices. Il est léger mais robuste dans sa conception, et il offre un système de contrôle automatisé des outils avec des caractéristiques de sécurité intégrées qui maintiennent les opérateurs en sécurité dans le laboratoire. De plus, TEL UW 300 Z est compatible avec une variété de procédés chimiques et de dépôt de couches minces, ce qui en fait un excellent choix pour une variété d'applications industrielles et de recherche.
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