Occasion HITACHI X-Strata 920 #293810485 à vendre en France

HITACHI X-Strata 920 est un appareil à rayons X de pointe conçu pour l'analyse de couches minces hautes performances dans une variété d'applications, allant de la fabrication de semi-conducteurs à la recherche de matériaux. Cet instrument de pointe intègre une technologie de pointe pour fournir des mesures précises et précises de la composition, de l'épaisseur et de la structure des couches minces. L'une des caractéristiques clés du X-Strata 920 est son optique à rayons X haute résolution, qui permet une analyse détaillée des couches minces à l'échelle nanométrique. Le système est équipé d'une source de rayons X de haute brillance, qui assure une excitation optimale de l'échantillon et améliore la sensibilité de l'analyse. Ceci est particulièrement important pour l'analyse de structures stratifiées complexes et de films ultra-minces, où des mesures précises sont critiques pour caractériser les propriétés des matériaux. HITACHI X-Strata 920 est également équipé d'un étage d'échantillons polyvalent qui permet l'analyse d'une large gamme de tailles et de formes d'échantillons. L'unité prend en charge le chargement manuel et automatisé des échantillons, permettant une analyse rapide et efficace de plusieurs échantillons en une seule fois. De plus, l'étage d'échantillon peut être incliné et tourné pour optimiser la géométrie de mesure pour différents types de couches minces, assurant des résultats fiables et reproductibles. En termes de capacités analytiques, X-Strata 920 offre une suite complète de techniques de mesure pour caractériser les couches minces. La machine comprend l'analyse de fluorescence X (XRF), qui permet l'analyse de composition élémentaire avec une grande sensibilité et précision. Cette technique est particulièrement utile pour identifier les impuretés et les dopants dans les couches minces, ainsi que pour mesurer l'épaisseur des couches individuelles au sein d'un empilement de couches multiples. De plus, le HITACHI X-Strata 920 est équipé de capacités de réflectivité aux rayons X (XRR) et de diffraction aux rayons X à incidence de pâturage (GIXRD), qui fournissent des informations précieuses sur la structure et la morphologie des couches minces. XRR est utilisé pour mesurer la densité et l'épaisseur des couches minces, tandis que GIXRD est utilisé pour analyser la structure cristalline, les paramètres de réseau et l'orientation dans les matériaux de couches minces. Ces techniques complètent l'analyse XRF et offrent une approche globale de la caractérisation des couches minces. X-Strata 920 est contrôlé par un logiciel intuitif qui fournit une interface conviviale pour la mise en place d'expériences, l'acquisition de données et l'analyse des résultats. Le logiciel permet de personnaliser les protocoles de mesure, les algorithmes de traitement des données et les outils de rapport, ce qui facilite l'adaptation de l'analyse aux besoins spécifiques de la recherche ou de la fabrication. De plus, l'outil est équipé d'outils avancés de visualisation des données qui permettent aux utilisateurs d'interpréter et de visualiser les résultats de manière claire et concise. Dans l'ensemble, HITACHI X-Strata 920 est un outil puissant et polyvalent pour l'analyse de couches minces, offrant des capacités analytiques avancées, une grande sensibilité et des mesures précises. Qu'il soit utilisé dans un laboratoire de recherche, un environnement de contrôle de la qualité ou une installation de fabrication de semi-conducteurs, cet instrument fournit une caractérisation fiable et précise des matériaux en couches minces, aidant les chercheurs et les ingénieurs à optimiser les propriétés et les performances des matériaux.