Occasion AST / ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY CIRIE-200 #293758400 à vendre en France

AST/ADVANCED Equipment TECHNOLOGY CIRIE-200 est un système de graveur/asher sophistiqué conçu pour fournir un traitement de précision pour la fabrication de semi-conducteurs et d'autres applications nanotechnologiques. Cet outil de pointe intègre des technologies et des fonctionnalités de pointe pour offrir une grande flexibilité, fiabilité et contrôle de processus pour divers processus de gravure et d'ashing. L'unité AST CIRIE-200 est équipée d'une chambre polyvalente capable de recevoir de multiples gaz de procédé et de fournir une large gamme de chimies plasmatiques pour obtenir des résultats précis de gravure et de cueillette sur des substrats allant des plaquettes de silicium aux matériaux avancés tels que les composés III-V et les films diélectriques. Cette flexibilité permet aux utilisateurs d'adapter les conditions de processus aux exigences spécifiques des appareils et aux propriétés des matériaux, rendant ADVANCED Machine TECHNOLOGY CIRIE-200 adaptée à une variété d'applications de recherche et de production. Un des traits clés d'outil CIRIE-200 est sa technologie source de plasma avancée, qui permet la génération de plasma efficace et uniforme à travers la chambre de traitement. L'actif utilise la puissance RF haute fréquence pour maintenir une décharge plasma stable, favorisant l'uniformité et la cohérence dans le processus de gravure/ashing. Cette source de plasma haute performance garantit des résultats fiables et reproductibles, essentiels au développement des procédés et au contrôle de la qualité de la production. L'équipement AST/ADVANCED Model TECHNOLOGY CIRIE-200 intègre également des capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus pour permettre l'ajustement en temps réel de paramètres clés tels que les débits de gaz, la pression, la température et la puissance RF. Ce niveau de contrôle permet aux utilisateurs d'optimiser les conditions de processus pour une vitesse maximale de gravure/cendres, une sélectivité et un contrôle de profil, conduisant à des résultats précis et reproductibles pour un large éventail de structures et de matériaux d'appareils. En termes de sécurité et de fiabilité, le système AST CIRIE-200 est conçu avec de multiples emboîtements et caractéristiques de sécurité pour assurer la protection de l'opérateur et l'intégrité de l'unité pendant le fonctionnement. La machine comprend également des diagnostics robustes et des procédures d'autocontrôle pour faciliter l'entretien et le dépannage, minimiser les temps d'arrêt et améliorer la productivité des installations de fabrication de semi-conducteurs et des laboratoires de recherche. ADVANCED Tool TECHNOLOGY CIRIE-200 asset est équipé d'une interface conviviale et d'un modèle de contrôle logiciel qui facilite la gestion des recettes, l'enregistrement des données et les capacités de surveillance à distance. Cette interface intuitive permet aux opérateurs de programmer et d'exécuter facilement des processus de gravure/ashing complexes, ainsi que d'analyser et de visualiser les données de processus à des fins d'optimisation et de documentation. Globalement, CIRIE-200 est un équipement de pointe de graveur/asher qui offre des performances, une précision et une polyvalence inégalées pour le traitement des semi-conducteurs et les applications nanotechnologiques. Avec sa technologie avancée de source de plasma, ses capacités de contrôle des processus et son interface conviviale, AST/ADVANCED System TECHNOLOGY CIRIE-200 est une solution complète pour les chercheurs et les ingénieurs qui cherchent à repousser les limites de la fabrication des appareils et du traitement des matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs.