Occasion LAM RESEARCH EOS #293640560 à vendre en France

LAM RESEARCH EOS est un équipement réactif de graveur d'ions/asher conçu pour les technologies de processus avancées. Il est capable d'une large gamme d'applications de gravure, des tranchées profondes MEMS aux gravures photorésistantes. Le système dispose d'une capacité avancée de gravure sub-atomique (SAE) avec la capacité de fournir des rapports d'aspect ultra-élevés. Il dispose également d'une approche de gravure de réseau à haut débit qui le rend idéal pour des opérations de production à haut volume. L'unité EOS est basée sur une technologie de plasma puisé à nanosecondes robuste, avec une source d'énergie de polarisation intégrée, un mandrin électrostatique et une machine à vide. Il est capable de fournir des vitesses de gravure jusqu'à 1000 fois plus rapides que les procédés classiques, tout en maintenant un niveau élevé de précision et de précision. Il a un profil d'endommagement de gravure faible, ce qui permet de graver de hauts rapports d'aspect et des films épais. Il dispose également d'une capacité de débit élevée, permettant de réaliser plusieurs processus de gravure en une seule fois. LAM RESEARCH L'outil EOS comprend une source avancée de plasma résistif couplé (RCP) qui fournit des ions de haute énergie pour fournir une gravure efficace des matériaux de composition différente. Son atout de source multi-alimentée a la capacité de varier l'énergie ionique pour répondre au besoin de gravure plus profonde, permettant l'optimisation des processus. EOS est également équipé d'une source de plasma à basse température, permettant d'effectuer des processus réactifs tels que la poly gravure et le reflow. De plus, le modèle LAM RESEARCH EOS est équipé d'un large éventail de fonctions de surveillance et de contrôle des processus. Son équipement de contrôle de processus permet aux utilisateurs de personnaliser les paramètres du processus de gravure afin d'assurer des résultats de haute qualité. Le système dispose également d'une unité de suivi des processus avec rétroaction en temps réel du taux de gravure. Cela garantit que les processus sont menés au meilleur résultat possible et que les éventuelles variations de processus sont minimisées. EOS etcher/asher est un outil puissant pour effectuer des processus de gravure avancés et fiables. Avec sa large gamme de fonctions de contrôle de processus et sa capacité de débit élevée, il est un choix idéal pour de nombreux besoins de production. En fournissant des résultats fiables et de haute qualité, il permet une fabrication rentable de structures à haut rapport d'aspect et de grandes surfaces pour les dispositifs à haute performance.